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1. (WO2016003758) RÉGLAGE DE LA FRÉQUENCE D'ACCORD POUR TRAITEMENT AU PLASMA À FRÉQUENCE RADIO PULSÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/003758    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/037607
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 25.06.2015
CIB :
H05H 1/46 (2006.01), H03B 28/00 (2006.01)
Déposants : ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC. [US/US]; 1625 Sharp Point Drive Fort Collins, CO 80525 (US)
Inventeurs : MUELLER, Michael; (US).
CHOI, Sam; (US)
Mandataire : O'DOWD, Sean, R.; (US)
Données relatives à la priorité :
14/320,268 30.06.2014 US
Titre (EN) FREQUENCY TUNING FOR PULSED RADIO FREQUENCY PLASMA PROCESSING
(FR) RÉGLAGE DE LA FRÉQUENCE D'ACCORD POUR TRAITEMENT AU PLASMA À FRÉQUENCE RADIO PULSÉE
Abrégé : front page image
(EN)This disclosure describes systems, methods, and apparatus for pulsed RF power delivery to a plasma load for plasma processing of a substrate. In order to maximize power delivery, a calibration phase using a dummy substrate or no substrate in the chamber, is used to ascertain a preferred fixed initial RF frequency for each pulse. This fixed initial RF frequency is then used at the start of each pulse during a processing phase, where a real substrate is used and processed in the chamber.
(FR)La présente invention concerne des systèmes, des procédés et un appareil de distribution de puissance RF pulsée à une charge de plasma pour le traitement au plasma d'un substrat. Afin de maximiser la distribution de puissance, une phase d'étalonnage utilisant un substrat factice ou n'utilisant pas de substrat dans la chambre, est utilisée pour déterminer une fréquence RF initiale fixe préférée pour chaque impulsion. Cette fréquence RF initiale fixe est ensuite utilisée au début de chaque impulsion au cours d'une phase de traitement, où un substrat réel est utilisé et traité dans la chambre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)