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1. (WO2016003246) PROCÉDÉ DE TEXTURATION DE SUBSTRAT DE VERRE POUR CELLULE SOLAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/003246    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/006909
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 06.07.2015
CIB :
H01L 31/0236 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 31/18 (2006.01)
Déposants : KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS [KR/KR]; (Anam-dong) 145, Anam-ro Seongbuk-gu Seoul 136-701 (KR)
Inventeurs : LEE, Heon; (KR).
SHIN, Ju-Hyeon; (KR)
Mandataire : LEE, Dong Gun; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0083931 04.07.2014 KR
Titre (EN) METHOD FOR TEXTURING GLASS SUBSTRATE FOR SOLAR CELL
(FR) PROCÉDÉ DE TEXTURATION DE SUBSTRAT DE VERRE POUR CELLULE SOLAIRE
(KO) 태양전지용 유리기판 텍스처링 방법
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for texturing a glass substrate for a solar cell, wherein an imprint mold, which has a molding pattern formed thereon, is coated with a solution, which comprises a silicon oxide, thereby forming a coating layer pattern on the imprint mold, and, while the glass substrate is positioned on the coating layer pattern, a coating layer pattern, which has a corrugated pattern corresponding to the molding pattern, is transferred to the glass substrate. Thereafter, the coating layer pattern having the corrugated pattern is separated from the imprint mold, thereby converting the coating layer pattern on the glass substrate to a low-reflection pattern.
(FR)L'invention concerne un procédé de texturation d'un substrat de verre pour une cellule solaire, consistant en ce qu'un moule d'impression, sur lequel est formé un motif de moulage, est revêtu d'une solution, qui comprend un oxyde de silicium, formant ainsi un motif de couche de revêtement sur le moule d'impression, et, tandis que le substrat de verre est positionné sur le motif de couche de revêtement, en ce qu'un motif de couche de revêtement, qui a un motif ondulé correspondant au motif de moulage, est transféré sur le substrat de verre. Ensuite, le motif de couche de revêtement ayant le motif ondulé est séparé du moule d'impression, ce qui permet de convertir le motif de couche de revêtement sur le substrat de verre en un motif à faible réflexion.
(KO)태양전지용 유리기판의 텍스처링 방법에 있어서, 몰딩 패턴이 형성되어 있는 임프린트 몰드 상에 실리콘 산화물을 포함하는 용액을 코팅하여 상기 임프린트 몰드 상에 코팅층 패턴을 형성하고, 상기 코팅층 패턴 상에 유리기판이 위치한 상태에서, 상기 몰딩 패턴에 대응되는 요철 패턴을 갖는 코팅층 패턴을 상기 유리기판으로 전사시킨다. 이후, 상기 요철 패턴을 갖는 코팅층 패턴을 상기 임프린트 몰드로부터 분리시켜, 상기 유리기판 상에 상기 코팅층 패턴을 저반사 패턴으로 전환시킨다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)