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1. (WO2016002797) PARTICULES DE SILICE POREUSES, LEUR PROCÉDÉ DE PRODUCTION, ET PRODUIT COSMÉTIQUE COMPOSÉ LES CONTENANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/002797    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/068872
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 30.06.2015
CIB :
C01B 33/18 (2006.01), A61K 8/25 (2006.01), A61Q 1/00 (2006.01), A61Q 1/02 (2006.01), A61Q 17/04 (2006.01), A61Q 19/00 (2006.01)
Déposants : JGC CATALYSTS AND CHEMICALS LTD. [JP/JP]; 580, Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2120013 (JP)
Inventeurs : ENOMOTO, Naoyuki; (JP).
WATANABE, Satoshi; (JP).
MIYOSHI, Yasutaka; (JP)
Mandataire : SSINPAT PATENT FIRM; Gotanda Yamazaki Bldg. 6F, 13-6, Nishigotanda 7-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-134192 30.06.2014 JP
Titre (EN) POROUS SILICA PARTICLES, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND COSMETIC COMPOUNDED WITH SAME
(FR) PARTICULES DE SILICE POREUSES, LEUR PROCÉDÉ DE PRODUCTION, ET PRODUIT COSMÉTIQUE COMPOSÉ LES CONTENANT
(JA) 多孔質シリカ系粒子、その製造方法及びそれを配合した化粧料
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] The purpose of the invention is to provide porous silica particles having a small specific surface area and a large pore volume, to provide a method for producing the particles, and to provide a cosmetic in which porous silica particles endowed with such characteristics are compounded as a texture improver. [Solution] These porous silica particles comprise fine silica particles having a loosely packed structure; the average particle diameter being 0.5-25 μm, the specific surface area determined by the BET method being 5-60 m2/cm3, and the pore volume being 0.35-2.0 mL/g. Furthermore, the most frequent pore size (Dm) in the pore size distribution (X axis: pore size; Y axis: value obtained by differentiating pore volume with respect to pore size) of the porous silica particles is 100 < Dm < 4000 nm.
(FR)Le problème abordé par l'invention est de pourvoir à des particules de silice poreuses ayant une surface spécifique réduite et un important volume de pores, de pourvoir à un procédé de production desdites particules, et de pourvoir à un produit cosmétique contenant à l'état incorporé des particules de silice poreuses dotées de ces caractéristiques à titre d'améliorant de texture. La solution selon l'invention porte sur des particules de silice poreuses comprenant de fines particules de silice ayant une structure tassée de manière lâche ; le diamètre de particule moyen étant de 0,5 à 25 µm, la surface spécifique, déterminée par la méthode BET, étant de 5 à 60 m2/cm3, et le volume de pores de 0,35 à 2,0 mL/g. De plus, la taille de pores la plus fréquente (Dm) dans la distribution des tailles de pores (axe X : taille de pore ; axe Y : valeur obtenue par différenciation du volume de pores par rapport à la taille de pore) des particules de silice poreuses est de 100 < Dm < 4000 nm.
(JA)[課題]本発明は、比表面積が小さく、かつ細孔容積が大きい多孔質シリカ系粒子と、その製造方法を提供すること、及び、このような特性を備えた多孔質シリカ系粒子を感触改良材として配合した化粧料を提供することを目的とする。 [解決手段]本発明の多孔質シリカ系粒子は、シリカ系微粒子の疎なパッキング構造で構成されており、平均粒子径が0.5~25μm、BET法で求めた比表面積が5~60m2/cm3、細孔容積が0.35~2.0ml/gである。さらに、多孔質シリカ系粒子の細孔径分布(X軸:細孔径、Y軸:細孔容積を細孔径で微分した値)における最頻細孔径(Dm)は100<Dm<4000nmにある。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)