WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2016002750) RÉSINE MÉTHACRYLIQUE OU COMPOSITION DE RÉSINE MÉTHACRYLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/002750 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/068771
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 30.06.2015
CIB :
C08F 20/18 (2006.01) ,C08L 33/12 (2006.01) ,C08L 51/04 (2006.01) ,C08L 69/00 (2006.01)
Déposants : KURARAY CO., LTD.[JP/JP]; 1621, Sakazu, Kurashiki-shi, Okayama 7100801, JP
Inventeurs : NAKAHARA, Atsuhiro; JP
ABE, Toru; JP
TAKAHASHI, Toru; JP
OZAWA, Hiroshi; JP
Mandataire : KIKUMA, Tadayuki; JP
Données relatives à la priorité :
2014-13434330.06.2014JP
2014-17491429.08.2014JP
Titre (EN) METHACRYLIC RESIN OR METHACRYLIC RESIN COMPOSITION
(FR) RÉSINE MÉTHACRYLIQUE OU COMPOSITION DE RÉSINE MÉTHACRYLIQUE
(JA) メタクリル樹脂またはメタクリル樹脂組成物
Abrégé :
(EN) A methacrylic resin composition containing from 90 mass% to 100 mass% of a methacrylic resin [A] in which the total contained amount of structural units derived from methyl methacrylate is 90 mass% or higher, the equivalent polystyrene molecular weight MA corresponding to the retention time that indicates the maximum intensity value in a chromatogram obtained by gel permeation chromatography is from 30,000 to 100,000, the area SgA of a region surrounded by the baseline of the above chromatogram and a trendline obtained by fitting to a Gaussian function by a nonlinear least-squares method using data in a range indicating an intensity of 70% or higher relative to the above maximum intensity value is 45-80% relative to the area SA surrounded by the above chromatogram and the baseline thereof, and the ratio MwgA/MngA of the equivalent polystyrene weight-average molecular weight MwgA and number-average molecular weight MngA calculated on the basis of a trendline obtained by the above fitting is from 1.01 to 1.20.
(FR) L'invention concerne une composition de résine méthacrylique contenant 90 % en masse à 100 % en masse d'une résine méthacrylique [A], dans laquelle la quantité contenue totale de motifs structuraux dérivés du méthacrylate de méthyle est de 90 % en masse ou plus, le poids moléculaire équivalent de polystyrène MA correspondant à la durée de rétention qui indique la valeur d'intensité maximale dans un chromatogramme obtenu par chromatographie par perméation de gel est de 30.000 à 100.000, la zone SgA d'une région entourée par la ligne de base du chromatogramme ci-dessus et une ligne de tendance obtenue par ajustement à une fonction gaussienne par une méthode des moindres carrés non linéaire à l'aide de données dans une plage indiquant une intensité de 70 % ou plus par rapport à la valeur d'intensité maximale ci-dessus est de 45-80 % par rapport à la zone SA entourée par le chromatogramme ci-dessus et la ligne de base correspondante et le rapport MwgA/MngA du poids moléculaire pondéral moyen équivalent de polystyrène MwgA et du poids moléculaire numérique moyen équivalent de polystyrène MngA, calculé sur la base d'une ligne de tendance obtenue par l'adaptation ci-dessus, est de 1,01 à 1,20.
(JA) メタクリル酸メチルに由来する構造単位の総含有量が90質量%以上であり、 ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで得られるクロマトグラムにおいて最大強度値を示すリテンションタイムに対応するポリスチレン換算の分子量MAが3万以上10万以下であり、前記最大強度値に対して70%以上の強度を示す範囲のデータを用いてガウス関数に非線形最小二乗法によってフィッティングしてなる近似曲線と前記クロマトグラムのベースラインとに囲まれる領域の面積SgAが、前記クロマトグラムとそれのベースラインとに囲まれる面積SAに対して45~80%であり、且つ前記フィッティングで得られる近似曲線に基いて算出されるポリスチレン換算の、重量平均分子量MwgAと数平均分子量MngAとの比MwgA/MngAが、1.01以上1.20以下であるメタクリル樹脂〔A〕を90質量%以上100質量%以下で含有するメタクリル樹脂組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)