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1. (WO2016002719) DISPOSITIF DE PRÉPARATION AUTOMATISÉE D'ÉCHANTILLONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/002719 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/068688
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 29.06.2015
CIB :
G01N 1/28 (2006.01) ,H01J 37/31 (2006.01) ,H01J 37/317 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
1
Echantillonnage; Préparation des éprouvettes pour la recherche
28
Préparation d'échantillons pour l'analyse
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
31
pour couper ou perforer
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
30
Tubes à faisceau électronique ou ionique destinés aux traitements localisés d'objets
317
pour modifier les propriétés des objets ou pour leur appliquer des revêtements en couche mince, p.ex. implantation d'ions
Déposants : HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION[JP/JP]; 24-14, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
Inventeurs : UEMOTO Atsushi; JP
ASAHATA Tatsuya; JP
SATO Makoto; JP
YAMAMOTO Yo; JP
Mandataire : SHIGA Masatake; JP
Données relatives à la priorité :
2014-13497730.06.2014JP
Titre (EN) AUTOMATED SAMPLE-PREPARATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE PRÉPARATION AUTOMATISÉE D'ÉCHANTILLONS
(JA) 自動試料作製装置
Abrégé :
(EN) A charged-particle-beam device (10a) in this invention is provided with at least the following: a sample-fragment holder (P); a needle (18); and a computer (21) that, on the basis of an image of a sample fragment (Q), said image having been obtained in advance via a plurality of charged-particle beams, controls a plurality of optical systems for emitting the charged-particle beams, the needle (18), and a gas supply unit (17) so as to transfer the sample fragment (Q) to the location of the sample-fragment holder (P), said location having been determined in advance.
(FR) L'invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées (10a) qui est pourvu au moins des éléments suivants : un support (P) de fragment d'échantillon ; une aiguille (18) ; et un ordinateur (21) qui, sur la base d'une image d'un fragment d'échantillon (Q), ladite image ayant été obtenue à l'avance par l'intermédiaire d'une pluralité de faisceaux de particules chargées, commande une pluralité de systèmes optiques pour émettre les faisceaux de particules chargées, l'aiguille (18), et une unité d'alimentation en gaz (17) de façon à transférer le fragment d'échantillon (Q) vers l'emplacement de du support (P) de fragment d'échantillon, ledit emplacement ayant été déterminé à l'avance.
(JA)  荷電粒子ビーム装置(10a)は、少なくとも試料片ホルダ(P)、ニードル(18)、および試料片(Q)の予め取得した複数の荷電粒子ビームによる画像を基にして、試料片Qを予め定めた試料片ホルダPの位置に移設するよう複数の荷電粒子ビーム照射光学系とニードル(18)とガス供給部(17)を制御するコンピュータ(21)を備える。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)