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1. (WO2016002590) APPAREIL DE TRAITEMENT PAR PLASMA ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2016/002590 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/068064
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 23.06.2015
CIB :
H05H 1/46 (2006.01) ,C23C 16/511 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01) ,H01L 21/31 (2006.01) ,H01L 21/316 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED[JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
Inventeurs : KUBOTA, Shinji; JP
ICHIKAWA, Yuusuke; JP
Mandataire : SAKAI, Hiroaki; JP
Données relatives à la priorité :
2014-13812603.07.2014JP
Titre (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING METHOD
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT PAR PLASMA ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA
(JA) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Abrégé : front page image
(EN) This plasma processing apparatus is provided with a processing container, a placing table, a gas supply mechanism, a plasma generating mechanism, and an adjustment unit. The placing table is provided in the processing container, and a subject to be processed is placed on the placing table. The gas supply mechanism supplies a processing gas to the inside of the processing container, said processing gas being to be used for the purpose of plasma reaction. The plasma generating mechanism includes a microwave oscillator, and brings the processing gas supplied to the inside of the processing container into the plasma state using microwaves oscillated by means of the microwave oscillator. In the cases of performing a plurality of steps for plasma-processing the subject, the adjustment unit adjusts, at timing of switching the steps, the frequencies of the microwaves to be oscillated by means of the microwave oscillator to target frequencies predetermined for respective steps.
(FR) L'invention concerne un appareil de traitement par plasma qui est pourvu d'un récipient de traitement, d'une table de placement, d'un mécanisme d'alimentation en gaz, d'un mécanisme de génération de plasma et d'une unité de réglage. La table de placement est disposée dans le récipient de traitement, et un sujet à traiter est placé sur la table de placement. Le mécanisme d'alimentation en gaz amène un gaz de traitement à l'intérieur du récipient de traitement, ledit gaz de traitement étant destiné à être utilisé aux fins d'une réaction plasmatique. Le mécanisme de génération de plasma comprend un oscillateur hyperfréquence, et met le gaz de traitement amené à l'intérieur du récipient de traitement dans l'état plasmatique à l'aide d'hyperfréquences que l'oscillateur hyperfréquence fait osciller. Dans le cas de la réalisation d'une pluralité d'étapes de traitement par plasma du sujet, l'unité de réglage règle, au moment des changements d'étape, les fréquences des hyperfréquences que l'oscillateur hyperfréquence doit faire osciller à des fréquences cibles prédéterminées pour les étapes respectives.
(JA)  プラズマ処理装置は、処理容器と、載置台と、ガス供給機構と、プラズマ生成機構と、調整部とを備える。載置台は、処理容器の内部に設けられ、被処理体が載置される。ガス供給機構は、プラズマ反応に用いられる処理ガスを処理容器の内部へ供給する。プラズマ生成機構は、マイクロ波発振器を含み、該マイクロ波発振器によって発振されるマイクロ波を用いて、処理容器の内部へ供給された処理ガスをプラズマ化する。調整部は、被処理体をプラズマ処理するための複数のステップの各々が実行される場合に、複数のステップの各々が切り替えられるタイミングで、マイクロ波発振器によって発振されるマイクロ波の周波数をステップ毎に予め定められた目標周波数に調整する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)