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1. (WO2016002547) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/002547    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/067807
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 15.06.2015
CIB :
C01B 31/02 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventeurs : MATSUMOTO, Takashi; (JP).
KOIZUMI, Kenjiro; (JP)
Mandataire : BECCHAKU, Shigehisa; Lusis Bldg. 2nd Floor 16-1, Higashi Shinbashi 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050021 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-136614 02.07.2014 JP
Titre (EN) SUBSTRATE TREATMENT DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a substrate treatment device whereby a thin film can be obtained including no defects after plasma reduction of an oxide film. A substrate treatment device 10 is provided with an antenna 19, and a treatment container 11 for accommodating a substrate S on which a graphene oxide film 45 is formed and generating a plasma of a reducing gas including a hydrocarbon gas in a treatment space PS2 inside the treatment container 11, a disc-shaped shielding plate 43 being disposed between the plasma and the substrate S in the treatment space PS2.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement de substrat qui permet d'obtenir un film mince exempt de défauts après réduction par plasma d'un film d'oxyde. Le dispositif (10) de traitement de substrat comporte une antenne (19) et un récipient (11) de traitement destiné à recevoir un substrat (S) sur lequel un film (45) d'oxyde de graphène est formé, et à générer un plasma d'un gaz réducteur comprenant un hydrocarbure gazeux dans un espace de traitement (PS2) à l'intérieur du récipient (11) de traitement, une plaque (43) de blindage en forme de disque étant placée entre le plasma et le substrat (S) dans l'espace de traitement (PS2).
(JA)酸化膜のプラズマによる還元後に欠陥を内包しない薄膜を得ることができる基板処理装置を提供する。基板処理装置10は、酸化グラフェン膜45が形成された基板Sを収容するとともに、内部の処理空間PS2において炭化水素ガスを含む還元ガスのプラズマを生じさせる処理容器11と、アンテナ19とを備え、処理空間PS2のプラズマ及び基板Sの間に円板状の遮蔽板43が配される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)