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1. (WO2016002273) PROCÉDÉ D'ÉVALUATION DE CONTAMINATION DE MATIÈRE ORGANIQUE SUR UNE SURFACE DE SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR ET SON UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/002273    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/059062
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 25.03.2015
CIB :
H01L 21/66 (2006.01), G01N 21/64 (2006.01)
Déposants : SUMCO CORPORATION [JP/JP]; 2-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058634 (JP)
Inventeurs : FUKUSHIMA Shinya; (JP).
ERIGUCHI Kazutaka; (JP)
Mandataire : SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-139131 04.07.2014 JP
Titre (EN) METHOD FOR EVALUATING ORGANIC MATERIAL CONTAMINATION ON SURFACE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND USE OF SAME
(FR) PROCÉDÉ D'ÉVALUATION DE CONTAMINATION DE MATIÈRE ORGANIQUE SUR UNE SURFACE DE SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR ET SON UTILISATION
(JA) 半導体基板表面の有機物汚染評価方法およびその利用
Abrégé : front page image
(EN)An embodiment according to the present invention relates to a method for evaluating organic material contamination on the surface of a semiconductor substrate that includes acquisition of photoluminescence intensity information on the surface of the semiconductor substrate being evaluated as well as performing evaluation of evaluation items selected from a group formed from absence or presence, extent, and surface distribution of organic material contamination on the surface of the semiconductor substrate being evaluated on the basis of the acquired photoluminescence intensity information.
(FR)Un mode de réalisation selon la présente invention concerne un procédé d'évaluation de contamination de matière organique sur la surface d'un substrat semi-conducteur qui comprend une acquisition d'informations d'intensité de photoluminescence sur la surface du substrat semi-conducteur qui est évalué ainsi que la réalisation d'une évaluation d'éléments d'évaluation sélectionnés parmi un groupe formé à partir de l'absence ou de la présence, l'étendue, et la distribution surfacique de contamination de matière organique sur la surface du substrat semi-conducteur qui est évalué sur la base des informations d'intensité de photoluminescence acquises.
(JA)本発明の一態様は、評価対象半導体基板表面においてフォトルミネッセンス強度情報を取得すること、ならびに、取得したフォトルミネッセンス強度情報に基づき、評価対象半導体基板表面の有機物汚染の有無、程度および面内分布からなる群から選ばれる評価項目の評価を行うこと、を含む半導体基板表面の有機物汚染の評価方法に関する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)