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1. (WO2016002272) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE MESURE D'UNE QUANTITÉ D'EXCENTRICITÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/002272    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/059056
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 25.03.2015
CIB :
G01M 11/00 (2006.01)
Déposants : OLYMPUS CORPORATION [JP/JP]; 43-2, Hatagaya 2-chome, Shibuya-ku, Tokyo 1510072 (JP)
Inventeurs : SATO Yosuke; (JP)
Mandataire : SAITO Keisuke; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-137980 03.07.2014 JP
Titre (EN) ECCENTRICITY AMOUNT MEASUREMENT METHOD AND ECCENTRICITY AMOUNT MEASUREMENT DEVICE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE MESURE D'UNE QUANTITÉ D'EXCENTRICITÉ
(JA) 偏心量計測方法及び偏心量計測装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for measuring an eccentricity amount by radiating beams of light into a test optical system disposed on a measurement axis, wherein the method includes: an acquisition step (S100) for acquiring wavefront data on the basis of the beams of light emitted from the test optical system; a first extraction step (S200) for extracting prescribed aberration components from the wavefront data; a second extraction step (S300) for extracting a first aberration component from the prescribed aberration components; and an analysis step (S400) for analyzing simultaneous linear equations with respect to the first aberration component, eccentric aberration sensitivity, and an eccentricity amount. The prescribed aberration components include aberration components generated by eccentricity. The first aberration component is an aberration component, from among the prescribed aberration components, which is proportional to the eccentricity amount multiplied by one. The eccentric aberration sensitivity is aberration sensitivity proportional to the eccentricity amount multiplied by one.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour mesurer une quantité d'excentricité par l'émission de faisceaux de lumière dans un système optique d'essai disposé sur un axe de mesure, le procédé comprenant les étapes suivantes : une étape d'acquisition (S100) pour acquérir des données de front d'onde sur la base des faisceaux de lumière émis par le système optique d'essai ; une première étape d'extraction (S200) pour extraire des composantes d'aberration prescrites à partir des données de front d'onde ; une seconde étape d'extraction (S300) pour extraire une première composante d'aberration à partir des composantes d'aberration prescrites ; et une étape d'analyse (S400) pour analyser des équations linéaires simultanées par rapport à la première composante d'aberration, à la sensibilité d'aberration excentrique et à une quantité d'excentricité. Les composantes d'aberration prescrites comprennent des composantes d'aberration générées par l'excentricité. La première composante d'aberration est une composante d'aberration, parmi les composantes d'aberration prescrites, qui est proportionnelle à la quantité d'excentricité multipliée par un. La sensibilité d'aberration excentrique est la sensibilité d'aberration proportionnelle à la quantité d'excentricité multipliée par un.
(JA) 計測軸上に配置された被検光学系に光束を照射して、偏心量を計測する方法であって、被検光学系から出射した光束に基づいて波面データを取得する取得工程S100と、波面データから所定の収差成分を抽出する第1の抽出工程S200と、所定の収差成分から第1の収差成分を抽出する第2の抽出工程S300と、第1の収差成分、偏心収差感度及び偏心量についての連立1次方程式を解析する解析工程S400と、を備え、所定の収差成分は、偏心によって生じる収差成分が含まれる収差成分であり、第1の収差成分は、所定の収差成分のうちの偏心量の1乗に比例する収差成分であり、偏心収差感度は、偏心量の1乗に比例する収差感度である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)