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1. (WO2016002215) REVÊTEMENT À FAIBLE RÉFLEXION, SUBSTRAT DOTÉ D'UN REVÊTEMENT À FAIBLE RÉFLEXION, ET DISPOSITIF DE CONVERSION PHOTOÉLECTRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/002215    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/003300
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 30.06.2015
CIB :
C03C 17/25 (2006.01), G02B 1/113 (2015.01), H01L 31/048 (2014.01)
Déposants : NIPPON SHEET GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-27, Mita 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1086321 (JP)
Inventeurs : KOYO, Mizuho; (JP).
KONDO, Fumiyoshi; (JP).
MIYAMOTO, Yoko; (JP).
KAWAZU, Mitsuhiro; (JP).
MATSUBARA, Hirofumi; (JP)
Mandataire : KAMADA, Koichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-134177 30.06.2014 JP
Titre (EN) LOW-REFLECTION COATING, SUBSTRATE PROVIDED WITH LOW-REFLECTION COATING, AND PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE
(FR) REVÊTEMENT À FAIBLE RÉFLEXION, SUBSTRAT DOTÉ D'UN REVÊTEMENT À FAIBLE RÉFLEXION, ET DISPOSITIF DE CONVERSION PHOTOÉLECTRIQUE
(JA) 低反射コーティング、低反射コーティング付き基板および光電変換装置
Abrégé : front page image
(EN) This low-reflection coating is a porous film in which solid-spherical silica microparticles having an average particle diameter of 80-150 nm are fixed by a binder having silica as a primary component thereof. The binder further includes an aluminum compound. The content ratios of components in the low-reflection coating expressed as mass% are 55-70% of the silica microparticles, 25-40% of silica from the binder, and 2-7% of the aluminum compound in terms of Al2O3. The film thickness of the low-reflection coating is 80-800 nm. The transmittance gain obtained by applying the low-reflection coating to a substrate is 2.5% or greater. Here, the transmittance gain relates to the average transmittance in a wavelength region of 380-850 nm, and is the increase in average transmittance of the substrate to which the low-reflection coating is applied relative to the average transmittance of the substrate before the low-reflection coating is applied.
(FR) Le revêtement à faible réflexion de la présente invention est un film poreux dans lequel des microparticules de silice sphériques ayant un diamètre moyen de particule de 80 à 150 nm sont fixées par un liant dont la silice est le composant primaire. Le liant comprend en outre un composé d'aluminium. Les teneurs des composants dans le revêtement à faible réflexion exprimées en % en masse sont les suivantes : 55 à 70 % de microparticules de silice, 25 à 40 % de silice du liant et 2 à 7 % du composé d'aluminium en termes d'Al2O3. L'épaisseur du film du revêtement à faible réflexion est de 80 à 800 nm. Le gain de transmittance obtenu par l'application du revêtement à faible réflexion sur un substrat est de 2,5 % ou plus. Ici, le gain de transmittance concerne la transmittance moyenne dans une région de longueur d'onde de 380 à 850 nm, et est l'augmentation de la transmittance moyenne du substrat sur lequel le revêtement à faible réflexion est appliqué par rapport à la transmittance moyenne du substrat avant application du revêtement à faible réflexion.
(JA) 本発明の低反射コーティングは、中実な球状で平均粒径が80~150nmであるシリカ微粒子が、シリカを主成分とするバインダによって固定されてなる多孔質膜である。バインダは、アルミニウム化合物をさらに含む。低反射コーティングにおける成分の含有率は、質量%表示で、シリカ微粒子55~70%、バインダにおけるシリカ25~40%、アルミニウム化合物をAl23に換算して2~7%、である。低反射コーティングの膜厚は80~800nmである。低反射コーティングを基板に施すことにより得られる透過率ゲインは2.5%以上である。ここで、透過率ゲインは、波長域380~850nmにおける平均透過率に関し、前記低反射コーティングを施す前の基板の平均透過率に対する、前記低反射コーティングを施した前記基板の平均透過率の増分、である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)