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1. (WO2016000530) STRUCTURE DE SUBSTRAT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2016/000530    N° de la demande internationale :    PCT/CN2015/081680
Date de publication : 07.01.2016 Date de dépôt international : 17.06.2015
CIB :
G06F 3/041 (2006.01)
Déposants : TPK TOUCH SOLUTIONS (XIAMEN) INC. [CN/CN]; No.199 Ban Shang Road, Information & Photoelectricity Park of Xiamen Torch Hi-Tech Industrial Development Zone Xiamen, Fujian 361009 (CN)
Inventeurs : HSU, I-chung; (CN).
HSU, Kuoshu; (CN).
LEE, Tinghsiang; (CN).
ZENG, Guowei; (CN).
GAO, Changqing; (CN)
Données relatives à la priorité :
201410315562.5 03.07.2014 CN
Titre (EN) SUBSTRATE STRUCTURE AND FABRICATION METHOD THEREOF
(FR) STRUCTURE DE SUBSTRAT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)A substrate structure with invisible inner electrode patterns is provided. The substrate structure includes a substrate, an electrode pattern, a first laminated structure, and a passivation layer. The electrode pattern is disposed on the substrate. The first laminated structure is disposed on the electrode pattern, in which the first laminated structure includes a first upper layer, a second upper layer, and a third upper layer. The first upper layer is adjoined to the electrode pattern and the substrate. The first upper layer, the second upper layer, and the third upper layer are stacked sequentially. The passivation layer is disposed on the first laminated structure. The refractive indexes of the electrode pattern, the first upper layer, the second upper layer, the third upper layer, and the passivation layer are decreased sequentially.
(FR)L'invention concerne une structure de substrat ayant des motifs d'électrode internes invisibles. La structure de substrat comprend un substrat, un motif d'électrode, une première structure stratifiée et une couche de passivation. Le motif d'électrode est disposé sur le substrat. La première structure stratifiée est disposée sur le motif d'électrode, la première structure stratifiée comprenant une première couche supérieure, une deuxième couche supérieure et une troisième couche supérieure. La première couche supérieure est contiguë au motif d'électrode et au substrat. La première couche supérieure, la deuxième couche supérieure et la troisième couche supérieure sont empilées séquentiellement. La couche de passivation est disposée sur la première structure stratifiée. Les indices de réfraction du motif d'électrode, de la première couche supérieure, de la deuxième couche supérieure, de la troisième couche supérieure et de la couche de passivation sont réduits séquentiellement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)