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1. (WO2015178474) COMPOSITION DE RÉSINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2015/178474 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/064709
Date de publication : 26.11.2015 Date de dépôt international : 22.05.2015
CIB :
C08L 23/22 (2006.01) ,C08J 5/18 (2006.01) ,C08K 5/42 (2006.01) ,C08L 23/26 (2006.01) ,C08L 53/00 (2006.01) ,C08L 57/02 (2006.01) ,C09K 3/10 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
23
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères d'hydrocarbures aliphatiques non saturés ne possédant qu'une seule liaison double carbone-carbone; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
02
non modifiées par un post-traitement chimique
18
Homopolymères ou copolymères d'hydrocarbures contenant au moins quatre atomes de carbone
20
contenant de quatre à neuf atomes de carbone
22
Copolymères de l'isobutylène; Caoutchouc butyl
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
J
MISE EN ŒUVRE; PROCÉDÉS GÉNÉRAUX POUR FORMER DES MÉLANGES; POST-TRAITEMENT NON COUVERT PAR LES SOUS-CLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H149
5
Fabrication d'objets ou de matériaux façonnés contenant des substances macromoléculaires
18
Fabrication de bandes ou de feuilles
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
K
EMPLOI COMME ADJUVANTS DE SUBSTANCES NON MACROMOLÉCULAIRES INORGANIQUES OU ORGANIQUES
5
Emploi d'ingrédients organiques
36
Composés contenant du soufre, du sélénium ou du tellure
41
Composés contenant du soufre lié à l'oxygène
42
Acides sulfoniques; Leurs dérivés
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
23
Compositions contenant des homopolymères ou des copolymères d'hydrocarbures aliphatiques non saturés ne possédant qu'une seule liaison double carbone-carbone; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
26
modifiées par post-traitement chimique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
53
Compositions contenant des copolymères séquencés possédant au moins une séquence d'un polymère obtenu par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carbone; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
57
Compositions contenant des polymères non spécifiés obtenus par des réactions ne faisant intervenir que des liaisons non saturées carbone-carbone
02
Copolymères d'hydrocarbures d'huile minérale
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
10
pour sceller ou étouper des joints ou des couvercles
Déposants :
日本化薬株式会社 NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目1番1号 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP
Inventeurs :
高橋 知宏 TAKAHASHI Chihiro; JP
芥 研二 AKUTA Kenji; JP
高橋 照士 TAKAHASHI Syoushi; JP
穂積 康弘 HOZUMI Yasuhiro; JP
箱根 吉浩 HAKONE Yoshihiro; JP
Mandataire :
特許業務法人浅村特許事務所 ASAMURA PATENT OFFICE, P.C.; 東京都品川区東品川2丁目2番24号 天王洲セントラルタワー Tennoz Central Tower, 2-2-24 Higashi-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo 1408776, JP
Données relatives à la priorité :
2014-10704123.05.2014JP
2015-05612319.03.2015JP
Titre (EN) RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE
(JA) 樹脂組成物
Abrégé :
(EN) Provided are: a resin composition having favorable transparency, moisture permeation resistance, heat resistance, and moist heat resistance; and a resin composition sheet obtained by means of same. The resin composition contains a polyisobutylene resin, a modified polyolefin resin, a tackifying resin, and a polystyrene-polyolefin block copolymer. The resin composition sheet results from forming a resin composition layer from the resin composition on a support body.
(FR) L'invention concerne une composition de résine aux propriétés favorables en termes de transparence, résistance à la pénétration de l'humidité, résistance à la chaleur et résistance à la chaleur humide ; et une feuille en composition de résine obtenue à partir de cette composition de résine. La composition de résine contient une résine polyisobutylène, une résine polyoléfine modifiée, une résine tackifiante et un copolymère séquencé polystyrène-polyoléfine. La feuille en composition de résine résulte du formage d'une couche en composition de résine sur un corps support.
(JA) 良好な透明性、耐透湿性、耐熱性、耐湿熱性を併せ持った樹脂組成物及びそれから得られる樹脂組成物シートを提供する。 ポリイソブチレン樹脂、変性ポリオレフィン樹脂、粘着付与樹脂、ポリスチレン-ポリオレフィンブロック共重合体を含有する樹脂組成物を樹脂組成物とし、支持体上に該樹脂組成物による樹脂組成物層を形成して樹脂組成物シートとする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)