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1. (WO2015178330) PROCÉDÉ POUR FABRIQUER UN STRATIFIÉ CONTENANT DES POINTS QUANTIQUES, STRATIFIÉ CONTENANT DES POINTS QUANTIQUES, UNITÉ DE RÉTROÉCLAIRAGE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES ET COMPOSITION CONTENANT DES POINTS QUANTIQUES
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N° de publication : WO/2015/178330 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/064144
Date de publication : 26.11.2015 Date de dépôt international : 18.05.2015
CIB :
B32B 7/02 (2006.01) ,F21S 2/00 (2006.01) ,F21V 3/00 (2015.01) ,F21V 3/04 (2006.01) ,G02F 1/13357 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
7
Produits stratifiés caractérisés par la relation entre les couches, c. à d. produits comprenant essentiellement des couches ayant des propriétés physiques différentes, ou produits caractérisés par la jonction entre couches
02
en ce qui concerne les propriétés physiques, p.ex. la dureté
F MÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
21
ÉCLAIRAGE
S
DISPOSITIFS D'ÉCLAIRAGE NON PORTATIFS; SYSTÈMES DE TELS DISPOSITIFS
2
Systèmes de dispositifs d'éclairage non prévus dans les groupes principaux F21S4/-F21S10/133
F MÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
21
ÉCLAIRAGE
V
CARACTÉRISTIQUES FONCTIONNELLES OU DÉTAILS FONCTIONNELS DES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES D'ÉCLAIRAGE; COMBINAISONS STRUCTURALES DE DISPOSITIFS D'ÉCLAIRAGE AVEC D'AUTRES OBJETS, NON PRÉVUES AILLEURS
3
Globes; Vasques; Verres de protection
F MÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
21
ÉCLAIRAGE
V
CARACTÉRISTIQUES FONCTIONNELLES OU DÉTAILS FONCTIONNELS DES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES D'ÉCLAIRAGE; COMBINAISONS STRUCTURALES DE DISPOSITIFS D'ÉCLAIRAGE AVEC D'AUTRES OBJETS, NON PRÉVUES AILLEURS
3
Globes; Vasques; Verres de protection
04
caractérisés par le matériau; caractérisés par des traitements superficiels ou des revêtements
[IPC code unknown for ERROR Code IPC incorrect: sous-groupe non valide (0=>999999)!]
Déposants :
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs :
米山 博之 YONEYAMA Hiroyuki; JP
伊藤 英明 ITOU Hideaki; JP
小川 朋成 OGAWA Tomonari; JP
國安 諭司 KUNIYASU Satoshi; JP
Mandataire :
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
Données relatives à la priorité :
2014-10384519.05.2014JP
2015-08586820.04.2015JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING QUANTUM-DOT-CONTAINING LAMINATE, QUANTUM-DOT-CONTAINING LAMINATE, BACKLIGHT UNIT, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND QUANTUM-DOT-CONTAINING COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ POUR FABRIQUER UN STRATIFIÉ CONTENANT DES POINTS QUANTIQUES, STRATIFIÉ CONTENANT DES POINTS QUANTIQUES, UNITÉ DE RÉTROÉCLAIRAGE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES ET COMPOSITION CONTENANT DES POINTS QUANTIQUES
(JA) 量子ドット含有積層体の製造方法、量子ドット含有積層体、バックライトユニット、液晶表示装置および量子ドット含有組成物
Abrégé :
(EN) A method for manufacturing a quantum-dot-containing laminate, the method having, in the stated order: a step for forming a coating by applying, to a first substrate, a quantum-dot-containing composition that contains quantum dots, a curable compound, and a thixotropic agent and that has a viscosity of 3-100 mPa・s and 300 mPa・s or above at shear speeds of 500 s-1 and 1 s-1, respectively; a step for laminating a second substrate on the coating; and a step for forming a quantum-dot-containing layer by applying an external stimulus to the coating and causing the coating to cure. This method is highly productive, makes it possible to obtain a quantum-dot-containing layer devoid of coating streaks, and results in a quantum-dot-containing laminate having reduced irregularity of film thickness. Additionally provided are a quantum-dot-containing laminate, a backlight unit, a liquid crystal display device, and a quantum-dot-containing composition.
(FR) L'invention porte sur un procédé pour fabriquer un stratifié contenant des points quantiques, lequel procédé a, dans l'ordre indiqué : une étape pour former un revêtement par l'application, sur un premier substrat, d'une composition contenant des points quantiques qui contient des points quantiques, d'un composé durcissable, et d'un agent thixotrope, et qui a une viscosité de 3 à 500 mPa・s et de 300 mPa・s ou plus à des vitesses de cisaillement de 500 s-1 et 1 s-1, respectivement ; une étape pour stratifier un second substrat sur le revêtement ; et une étape pour former une couche contenant des points quantiques par l'application d'un stimulus externe au revêtement et par le fait de faire durcir le revêtement. Ce procédé est hautement productif, il rend possible d'obtenir une couche contenant des points quantiques exempte de stries de revêtement, et il produit en résultat un stratifié contenant des points quantiques ayant une irrégularité d'épaisseur de film réduite. L'invention porte également sur un stratifié contenant des points quantiques, sur une unité de rétroéclairage, sur un dispositif d'affichage à cristaux liquides, et sur une composition contenant des points quantiques.
(JA) 量子ドット、硬化性化合物及びチキソトロピー剤を含有し、剪断速度500s-1と1s-1の場合の粘度が3~100mPa・sと300mPa・s以上の量子ドット含有組成物を第1の基材の上に塗布して塗膜を形成する工程;塗膜の上に第2の基材を積層する工程;塗膜に外部刺激を与えて硬化し、量子ドット含有層を形成する工程;をこの順に有する量子ドット含有積層体の製造方法は、生産性が高く、塗布スジが生じていない量子ドット含有層を得られ、かつ、量子ドット含有積層体の膜厚ムラが小さい;量子ドット含有積層体;バックライトユニット;液晶表示装置;量子ドット含有組成物。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)
Also published as:
CN106457756KR1020160147857