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1. (WO2015176751) APPAREIL DE DÉPÔT PERMETTANT LE DÉPÔT D'UN MATÉRIAU SUR UN SUBSTRAT ET PROCÉDÉ PERMETTANT LE DÉPÔT D'UN MATÉRIAU SUR UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2015/176751 N° de la demande internationale : PCT/EP2014/060360
Date de publication : 26.11.2015 Date de dépôt international : 20.05.2014
CIB :
C23C 14/56 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
56
Appareillage spécialement adapté au revêtement en continu; Dispositifs pour maintenir le vide, p.ex. fermeture étanche
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
23
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
C
REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14
Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22
caractérisé par le procédé de revêtement
34
Pulvérisation cathodique
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
ZILBAUER, Thomas Werner [DE/DE]; DE (US)
HELLMICH, Anke [DE/DE]; DE (US)
HINTERSCHUSTER, Reiner [DE/DE]; DE (US)
MÜHLFELD, Uwe [DE/DE]; DE (US)
STOCK, Bernhard [DE/DE]; DE (US)
WOLF, Hans Georg [DE/DE]; DE (US)
BENDER, Marcus [DE/DE]; DE (US)
Inventeurs :
ZILBAUER, Thomas Werner; DE
HELLMICH, Anke; DE
HINTERSCHUSTER, Reiner; DE
MÜHLFELD, Uwe; DE
STOCK, Bernhard; DE
WOLF, Hans Georg; DE
BENDER, Marcus; DE
Mandataire :
ZIMMERMANN & PARTNER; Josephspitalstr. 15 80331 München, DE
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) DEPOSITION APPARATUS FOR DEPOSITION OF A MATERIAL ON A SUBSTRATE AND METHOD FOR DEPOSITING A MATERIAL ON A SUBSTRATE
(FR) APPAREIL DE DÉPÔT PERMETTANT LE DÉPÔT D'UN MATÉRIAU SUR UN SUBSTRAT ET PROCÉDÉ PERMETTANT LE DÉPÔT D'UN MATÉRIAU SUR UN SUBSTRAT
Abrégé :
(EN) A deposition apparatus (300) for deposition of a material on a substrate is provided. The deposition apparatus (300) includes two or more processing chambers including a first processing chamber (310) and a second processing chamber (320); a substrate support (330) extending at least through the first processing chamber (310) and the second processing chamber (320); and two or more deposition source assemblies including a first deposition source assembly (350) in the first processing chamber (310) and a second deposition source assembly (360) in the second processing chamber (320). Each of the two or more deposition source assemblies includes at least one deposition source support (351, 361) configured to support at least one first deposition source and at least one process device. The at least one deposition source support (351, 361) is configured to be moveable at least between a first position and a second position. In the first position, the at least one first deposition source is oriented towards the substrate support (330), and, in the second position, the at least one process device is oriented towards the substrate support (330).
(FR) L'invention concerne un appareil de dépôt (300) permettant le dépôt d'un matériau sur un substrat. L'appareil de dépôt (300) comprend au moins deux chambres de traitement dont une première chambre de traitement (310) et une seconde chambre de traitement (320) ; un support (330) de substrat s'étendant au moins à travers la première chambre de traitement (310) et la seconde chambre de traitement (320) ; et au moins deux ensembles sources de dépôt dont un premier ensemble source de dépôt (350) dans la première chambre de traitement (310) et un second ensemble source de dépôt (360) dans la seconde chambre de traitement (320). Chacun des au moins deux ensembles sources de dépôt comprend au moins un support de source de dépôt (351, 361) conçu pour soutenir au moins une première source de dépôt et au moins un dispositif de traitement. Ledit ou lesdits supports de sources de dépôt (351, 361) sont conçus pour être mobiles au moins entre une première position et une seconde position. Dans la première position, ladite ou lesdites premières sources de dépôt sont orientées vers le support de substrat (330) et, dans la seconde position, ledit ou lesdits dispositifs de traitement sont orientés vers le support de substrat (330).
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)
Also published as:
KR2020170000328CN206858652