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1. (WO2015176272) PLAQUE À ZONE BIMÉTALLIQUE À DÉCALAGE DE PHASE DU TYPE POSITIF/NÉGATIF
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权 利 要 求

1.一种正负相移双金属波带片,所述正负相移双金属波带片包含: 第一金属材料,所述第一金属材料具有正相移;

第二金属材料,所述第二金属材料在工作能量点具有负相移; 所述第一金属材料与所述第二金属材料交替排列,以使得所述第二金 属材料替代传统波带片的一个周期中的空白部分。

2. 权利要求 1所述的正负相移双金属波带片,所述正负相移双金属波 带片是环形的,所述第一金属材料与所述第二金属材料形成交替的环结构。

3. 权利要求 1所述的正负相移双金属波带片,所述第一金属材料选自 镍、金、锗、钛、钒、铬、锰、铁、铜、锌。

4. 权利要求 1所述的正负相移双金属波带片,所述第二金属材料选自 钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、锌、镓、锗、铪、钨、铼和锇。

5. 权利要求 1所述的正负相移双金属波带片,所述正负相移双金属波 带片在与普通单金属相位波带片厚度相同的情况下,所述正负相移双金属 波带片的衍射效率在常用范围内高于所述普通单金属相位波带片的衍射 效率。

6. 权利要求 1所述的正负相移双金属波带片,所述正负相移双金属波 带片为钒镍、钛镍、钒金双金属波带片。

7. 一种制备正负相移双金属波带片的方法,所述方法包括以下歩骤: a. 在基片上沉积第一金属材料的薄膜;

b. 在第一金属材料的薄膜上形成具有波带片结构的光刻胶;

c 经由所形成的具有波带片结构的光刻胶进行刻蚀,将波带片结构转 移至所述第一金属材料的薄膜上,形成第一金属材料的波带片结构;

d. 在刻蚀出的空隙处沉积第二金属材料;

e. 去除光刻胶,形成正负相移双金属波带片结构。

8. 权利要求 7所述的方法,所述光刻胶通过旋涂涂布,之后对其进行 电子束曝光或干涉光刻,从而形成具有波带片结构的光刻胶。

9. 权利要求 7所述的方法,所述歩骤 d中的刻蚀通过氩离子刻蚀或反 应离子刻蚀进行。

10. 权利要求 7所述的方法,所述方法还包括在歩骤 e得到的正负相 移双金属波带片结构背面开窗,获得正负相移双金属波带片。