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1. (WO2015175175) CHAMBRE DE CUISSON PAR LOTS À DISTRIBUTION DE GAZ ET POMPAGE INDIVIDUEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2015/175175 N° de la demande internationale : PCT/US2015/026937
Date de publication : 19.11.2015 Date de dépôt international : 21.04.2015
CIB :
H01L 21/205 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
20
Dépôt de matériaux semi-conducteurs sur un substrat, p.ex. croissance épitaxiale
205
en utilisant la réduction ou la décomposition d'un composé gazeux donnant un condensat solide, c. à d. un dépôt chimique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
KHAN, Adib; US
VENKATARAMAN, Shankar; US
PINSON, Jay D., III; US
YANG, Jang-Gyoo; US
INGLE, Nitin Krishnarao; US
LIANG, Qiwei; US
Mandataire :
PATTERSON, B. Todd; US
Données relatives à la priorité :
14/577,82819.12.2014US
61/996,81714.05.2014US
Titre (EN) BATCH CURING CHAMBER WITH GAS DISTRIBUTION AND INDIVIDUAL PUMPING
(FR) CHAMBRE DE CUISSON PAR LOTS À DISTRIBUTION DE GAZ ET POMPAGE INDIVIDUEL
Abrégé :
(EN) Embodiments of the present disclosure generally relate to a batch processing chamber that is adapted to simultaneously cure multiple substrates at one time. The batch processing chamber includes multiple processing sub-regions that are each independently temperature controlled. The batch processing chamber may include a first and a second sub-processing region that are each serviced by a substrate transport device external to the batch processing chamber. In addition, a slotted cover mounted on the loading opening of the batch curing chamber reduces the effect of ambient air entering the chamber during loading and unloading.
(FR) Des modes de réalisation de la présente invention portent d'une manière générale sur une chambre de traitement par lots qui est conçue pour cuire simultanément de multiples substrats à la fois. La chambre de traitement par lots comprend de multiples sous-régions de traitement qui sont régulées en température chacune indépendamment des autres. La chambre de traitement par lots peut comprendre une première et une deuxième sous-région de traitement qui sont desservies chacune par un dispositif de transport de substrats externe à la chambre de traitement par lots. En outre, un couvercle à fentes monté sur l'ouverture de chargement de la chambre de cuisson par lots réduit l'effet de pénétration d'air ambiant dans la chambre pendant le chargement et le déchargement.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)
Also published as:
CN106463362KR1020170007411JP2017522718