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1. (WO2015174772) COMPOSITION COSMÉTIQUE DE LIFTING DE LA PEAU CONTENANT DU CHITOSANE AYANT UNE PROPRIÉTÉ DE DISSOLUTION RAPIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2015/174772 N° de la demande internationale : PCT/KR2015/004872
Date de publication : 19.11.2015 Date de dépôt international : 14.05.2015
CIB :
A61K 8/73 (2006.01) ,A61K 8/67 (2006.01) ,A61Q 19/00 (2006.01)
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
K
PRÉPARATIONS À USAGE MÉDICAL, DENTAIRE OU POUR LA TOILETTE
8
Cosmétiques ou préparations similaires pour la toilette
18
caractérisés par la composition
72
contenant des composés organiques macromoléculaires
73
Polysaccharides
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
K
PRÉPARATIONS À USAGE MÉDICAL, DENTAIRE OU POUR LA TOILETTE
8
Cosmétiques ou préparations similaires pour la toilette
18
caractérisés par la composition
30
contenant des composés organiques
67
Vitamines
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
Q
UTILISATION SPÉCIFIQUE DE COSMÉTIQUES OU DE PRÉPARATIONS SIMILAIRES POUR LA TOILETTE
19
Préparations pour les soins de la peau
Déposants :
손미경 SON, Mi Kyung [KR/KR]; KR
박순영 PARK, Soon Young [KR/KR]; KR
Inventeurs :
손미경 SON, Mi Kyung; KR
박순영 PARK, Soon Young; KR
Mandataire :
성낙훈 SEONG, Nak Hoon; KR
Données relatives à la priorité :
10-2014-005799614.05.2014KR
Titre (EN) SKIN LIFTING COSMETIC COMPOSITION CONTAINING CHITOSAN HAVING FAST DISSOLVING PROPERTY
(FR) COMPOSITION COSMÉTIQUE DE LIFTING DE LA PEAU CONTENANT DU CHITOSANE AYANT UNE PROPRIÉTÉ DE DISSOLUTION RAPIDE
(KO) 속용성을 갖는 키토산을 포함하는 피부 리프팅용 화장조성물
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a cosmetic composition which: does not contain a preservative, a surfactant and the like capable of burdening or having an adverse effect on the skin since the cosmetic composition contains chitosan having a fast dissolving property in an undissolved state and is used by allowing chitosan to be dissolved by a user just before use; and is suitable for skin lifting, the cosmetic composition comprising: 0.5-6.0 wt% of chitosan, having a fast dissolving property, dissolved with a dissolution velocity, in the range of 1-15 minutes, in a solvent having a degree of deacetylation (DA) in the range of 80-100% and a pH in the range of 3.5-7.5; and the remainder being a solvent having a pH in the range of 3.5-7.5, wherein the chitosan is physically separated from the solvent and contained in an undissolved state.
(FR) La présente invention concerne une composition cosmétique qui ne contient pas de conservateur, ni de tensioactif ni d'autres composés similaires susceptibles d'alourdir ou de nuire à la peau, la composition cosmétique contenant du chitosane ayant une propriété de dissolution rapide à l'état non dissous et étant utilisée en permettant la dissolution du chitosane par un utilisateur juste avant l'utilisation; et convient au lifting de la peau, la composition cosmétique comprenant : de 0,5 à 6,0 % en poids de chitosane, doté d'une propriété de dissolution rapide, dissous avec une vitesse de dissolution dans la plage de 1 à 15 minutes dans un solvant ayant un degré de désacétylation (DA) dans la plage de 80 à 100 % et un pH dans la plage de 3,5 à 7,5; et le complément étant constitué d'un solvant ayant un pH dans la plage de 3,5 à 7,5, le chitosane étant physiquement séparé du solvant et contenu à l'état non dissous.
(KO) 본 발명은 속용성을 갖는 키토산을 미용해 상태로 포함하며, 사용 직전에 사용자에 의해 용해시켜 사용토록 함으로써 피부에 부담 내지는 악영향을 줄 수 있는 방부제와 계면활성제 등을 포함하지 않으며, 피부 리프팅용으로 적절한 화장조성물에 관한 것으로서, 80 내지 100%의 범위 이내의 탈아세틸화도(DA: Degree of Deacetylation) 및 3.5 내지 7.5의 범위 이내의 pH를 갖는 용매에서 1 내지 15분의 범위 이내의 용해속도로 용해되는 속용성을 갖는 키토산 0.5 내지 6.0중량%; 및 잔량으로서 3.5 내지 7.5의 범위 이내의 pH를 갖는 용매;를 포함하되, 상기 키토산이 상기 용매로부터 물리적으로 분리되어 용해되어 있지 않은 상태로 포함됨을 특징으로 한다.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)