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1. (WO2015174221) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ DE DÉTECTION UTILISANT LEDIT DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2015/174221 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/062056
Date de publication : 19.11.2015 Date de dépôt international : 21.04.2015
CIB :
H01J 37/10 (2006.01) ,H01J 37/09 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
10
Lentilles
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
09
Diaphragmes; Ecrans associés aux dispositifs électronoptiques ou ionoptiques; Compensation des champs perturbateurs
Déposants :
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Inventeurs :
猩々 智康 SHOJO Tomoyasu; JP
川野 源 KAWANO Hajime; JP
早田 康成 SOHDA Yasunari; JP
Mandataire :
平木 祐輔 HIRAKI Yusuke; JP
Données relatives à la priorité :
2014-09990213.05.2014JP
Titre (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND DETECTION METHOD USING SAID DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ DE DÉTECTION UTILISANT LEDIT DISPOSITIF
(JA) 荷電粒子線装置及び当該装置を用いる検査方法
Abrégé :
(EN)  In the present invention, a charged particle beam device has a charged particle source (1), a first condenser lens (4) arranged downstream from the charged particle source (1), an aperture (5) arranged downstream from the first condenser lens (4), and a second condenser lens (6) arranged downstream from the aperture (5), wherein, when a sample (12) is to be irradiated at a second charged particle beam amount which is greater than a first charged particle beam amount, the first and second condenser lenses are controlled such that a charged particle beam is formed downstream from the aperture (5), and such that the focal point of the second condenser lens does not vary between the first charged particle beam amount and the second charged particle beam amount.
(FR)  Selon la présente invention, un dispositif à faisceau de particules chargées a une source de particules chargées (1), une première lentille de condenseur (4) agencée en aval de la source de particules chargées (1), une ouverture (5) agencée en aval de la première lentille de condenseur (4), et une seconde lentille de condenseur (6) agencée en aval de l'ouverture (5), lorsqu'un échantillon (12) est à exposer au rayonnement d'une seconde quantité de faisceau de particules chargées qui est supérieure à une première quantité de faisceau de particules chargées, les première et seconde lentilles de condenseur étant commandées de telle sorte qu'un faisceau de particules chargées est formé en aval de l'ouverture (5), et de telle sorte que le point focal de la seconde lentille de condenseur ne varie pas entre la première quantité de faisceau de particules chargées et la seconde quantité de faisceau de particules chargées.
(JA)  荷電粒子源(1)と、荷電粒子源(1)の下流に設置された第1のコンデンサレンズ(4)と、前記第1のコンデンサレンズ(4)の下流に設置された絞り(5)と、前記絞り(5)よりも下流に設置された第2のコンデンサレンズ(6)とを有する荷電粒子線装置において、第1の荷電粒子線量より多い第2の荷電粒子線量で試料(12)を照射する場合に、荷電粒子線が前記絞り(5)より下流で結像し、かつ、前記第1の荷電粒子線量と前記第2の荷電粒子線量とで前記第2のコンデンサレンズの焦点位置が変化しないように、前記第1及び第2のコンデンサレンズを制御する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)
Also published as:
US20170053777