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1. (WO2015174199) COMPOSÉ CONTENANT UN GROUPE HYDROXY PHÉNOLIQUE MODIFIÉ, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSÉ CONTENANT UN GROUPE HYDROXY PHÉNOLIQUE MODIFIÉ, COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, MATÉRIAU DE RÉSERVE, ET FILM DE REVÊTEMENT DE RÉSERVE
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N° de publication : WO/2015/174199 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/061676
Date de publication : 19.11.2015 Date de dépôt international : 16.04.2015
CIB :
C07C 39/14 (2006.01) ,C07C 37/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
39
Composés comportant au moins un groupe hydroxyle ou O-métal lié à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons
12
polycycliques sans autre insaturation que celle des cycles aromatiques
14
avec au moins un groupe hydroxyle lié à un système cyclique à deux cycles condensés
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
37
Préparation de composés comportant des groupes hydroxyle ou O-métal liés à un atome de carbone d'un cycle aromatique à six chaînons
11
par des réactions augmentant le nombre d'atomes de carbone
20
au moyen d'aldéhydes ou de cétones
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
039
Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
Déposants :
DIC株式会社 DIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都板橋区坂下三丁目35番58号 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520, JP
Inventeurs :
今田知之 IMADA Tomoyuki; JP
Mandataire :
河野通洋 KONO Michihiro; JP
Données relatives à la priorité :
2014-10156015.05.2014JP
Titre (EN) COMPOUND CONTAINING MODIFIED PHENOLIC HYDROXY GROUP, METHOD FOR PRODUCING COMPOUND CONTAINING MODIFIED PHENOLIC HYDROXY GROUP, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST MATERIAL, AND RESIST COATING FILM
(FR) COMPOSÉ CONTENANT UN GROUPE HYDROXY PHÉNOLIQUE MODIFIÉ, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSÉ CONTENANT UN GROUPE HYDROXY PHÉNOLIQUE MODIFIÉ, COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, MATÉRIAU DE RÉSERVE, ET FILM DE REVÊTEMENT DE RÉSERVE
(JA) 変性フェノール性水酸基含有化合物、変性フェノール性水酸基含有化合物の製造方法、感光性組成物、レジスト材料及びレジスト塗膜
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to provide: a compound containing a modified phenolic hydroxy group, which has excellent photosensitivity and heat resistance; a photosensitive composition containing the compound; a resist material comprising the photosensitive composition; and a coating film comprising the resist material. The present invention provides a compound containing a modified phenolic hydroxy group, which comprises a molecular structure represented by general formula (1) [wherein R1 represents a tertiary alkyl group, an alkoxyalkylgroup, an aryloxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group containing a hetero atom, or a trialkylsilyl group; R2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, or a halogen atom; and R3 represents an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent] (wherein a molecular structure represented by general formula (2) is excluded).
(FR) La présente invention concerne : un composé contenant un groupe hydroxy phénolique modifié, qui présente une excellente photosensibilité et résistance à la chaleur ; une composition photosensible contenant le composé ; un matériau de réserve comprenant la composition photosensible ; et un film de revêtement comprenant le matériau de réserve. Le composé contenant un groupe hydroxy phénolique modifié, comprend une structure moléculaire représentée par la formule générale (1) [dans laquelle R1 représente un groupe alkyle tertiaire, un groupe alcoxyalkyle, un groupe aryloxyalkyle, un groupe acyle, un groupe alcoxycarbonyle, un groupe aryloxycarbonyle, un groupe hydrocarboné aliphatique cyclique contenant un hétéroatome, ou un groupe trialkylsilyle ; R2 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle, un groupe alcoxy, un groupe aryle qui peut avoir un substituant, un groupe aralkyle qui peut avoir un substituant, ou un atome d'halogène ; et R3 représente un groupe alkyle qui peut avoir un substituant, ou un groupe aryle qui peut avoir un substituant] (dans lequel une structure moléculaire représentée par la formule générale (2) est exclue).
(JA)  本発明は、光感度及び耐熱性に優れる変性フェノール性水酸基含有化合物、当該化合物を含有する感光性組成物、当該感光性組成物からなるレジスト材料、及び当該レジスト材料からなる塗膜を提供することを目的として、下記一般式(1)[式中、Rは3級アルキル基、アルコキシアルキル基、アリールオキシアルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロ原子含有環状脂肪族炭化水素基、又はトリアルキルシリル基を表し、Rは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、又はハロゲン原子を表し、Rは置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。] で表される分子構造(但し、下記一般式(2)で表される分子構造を除く。)からなる変性フェノール性水酸基含有化合物を提供する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)
Also published as:
US20170066703CN106458812JPWO2015174199KR1020170008737