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1. (WO2015172027) MÉTROLOGIE DE RÉPONSE DE SIGNAL POUR DES MESURES D'ALIGNEMENT BASÉES SUR LA DIFFUSOMÉTRIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2015/172027 N° de la demande internationale : PCT/US2015/029896
Date de publication : 12.11.2015 Date de dépôt international : 08.05.2015
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
Déposants :
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs :
SHCHEGROV, Andrei V.; US
PANDEV, Stilian Ivanov; US
MADSEN, Jonathan M.; US
KUZNETSOV, Alexander; US
MIEHER, Walter Dean; US
Mandataire :
MCANDREWS, Kevin; US
Données relatives à la priorité :
14/704,84005.05.2015US
61/991,39509.05.2014US
Titre (EN) SIGNAL RESPONSE METROLOGY FOR SCATTEROMETRY BASED OVERLAY MEASUREMENTS
(FR) MÉTROLOGIE DE RÉPONSE DE SIGNAL POUR DES MESURES D'ALIGNEMENT BASÉES SUR LA DIFFUSOMÉTRIE
Abrégé :
(EN) Methods and systems for creating a measurement model based only on measured training data are presented. The trained measurement model is then used to calculate overlay values directly from measured scatterometry data. The measurement models receive scatterometry signals directly as input and provide overlay values as output. In some embodiments, overlay error is determined from measurements of design rule structures. In some other embodiments, overlay error is determined from measurements of specialized target structures. In a further aspect, the measurement model is trained and employed to measure additional parameters of interest, in addition to overlay, based on the same or different metrology targets. In some embodiments, measurement data from multiple targets, measurement data collected by multiple metrologies, or both, is used for model building, training, and measurement. In some embodiments, an optimization algorithm automates the measurement model building and training process.
(FR) L'invention porte sur des procédés et des systèmes pour créer un modèle de mesure uniquement sur la base de données d'apprentissage mesurées. Le modèle de mesure entraîné est ensuite utilisé pour calculer des valeurs d'alignement ("overlay") directement à partir de données de diffusométrie mesurées. Les modèles de mesure reçoivent des signaux de diffusométrie directement en entrée et fournissent des valeurs d'alignement en sortie. Selon certains modes de réalisation, une erreur d'alignement est déterminée à partir de mesures de structures de règles de dessin. Selon certains autres modes de réalisation, une erreur d'alignement est déterminée à partir de mesures de structures de cibles spécialisées. Selon un autre aspect, le modèle de mesure est entraîné et employé pour mesurer des paramètres d'intérêt supplémentaires, s'ajoutant à l'alignement, sur la base de cibles de métrologie identiques ou différentes. Selon certains modes de réalisation, des données de mesure provenant de cibles multiples, des données de mesure collectées par des métrologies multiples, ou les deux, sont utilisées pour la construction, l'apprentissage et la mesure de modèle. Selon certains modes de réalisation, un algorithme d'optimisation automatise le processus de construction et d'apprentissage de modèle de mesure.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)
Also published as:
CN106463429KR1020170005059