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1. (WO2015171654) SÉLECTION D'ÉCHANTILLON À ÉTALONNAGE AUTOMATIQUE POUR INSPECTION DE PHOTOMASQUE DE PUCE PAR RAPPORT À BASE DE DONNÉES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2015/171654 N° de la demande internationale : PCT/US2015/029309
Date de publication : 12.11.2015 Date de dépôt international : 05.05.2015
CIB :
H01L 21/027 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027
Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
66
Essai ou mesure durant la fabrication ou le traitement
Déposants :
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Inventeurs :
ZHAO, Feng; US
PAN, Gang; US
Mandataire :
MCANDREWS, Kevin; US
Données relatives à la priorité :
14/703,54604.05.2015US
61/988,90806.05.2014US
Titre (EN) AUTOMATIC CALIBRATION SAMPLE SELECTION FOR DIE-TO-DATABASE PHOTOMASK INSPECTION
(FR) SÉLECTION D'ÉCHANTILLON À ÉTALONNAGE AUTOMATIQUE POUR INSPECTION DE PHOTOMASQUE DE PUCE PAR RAPPORT À BASE DE DONNÉES
Abrégé :
(EN) A method for selecting samples of reticle design data patterns in order to calibrate the parameters based on which the reference image used in a die-to-database reticle inspection method is rendered, the method comprising the steps of applying local binary pattern (LBP) analysis to a plurality of samples to obtain a p-dimensional vector output for each of the plurality of samples, clustering the q-D data points to M groups, selecting one sample from each clustered group, calculating evaluation scores for the samples selected, and, selecting a portion of the M samples on the representativeness score and the diversity score.
(FR) La présente invention porte sur un procédé de sélection d'échantillon de motifs de données de conception de réticule pour étalonner les paramètres sur la base desquels l'image de référence utilisée dans un procédé d'inspection de réticule de puce par rapport à base de données est affichée, le procédé comprenant les étapes consistant à appliquer une analyse de motif binaire local (LBP) à une pluralité d'échantillons pour obtenir une sortie de vecteur p dimensions pour chacun de la pluralité d'échantillons, regrouper les points de données q-D en M groupes, sélectionner un échantillon à partir de chaque groupe regroupé, calculer des marques d'évaluation pour les échantillons sélectionnés, et, sélectionner une partie des M échantillons sur la marque de représentativité résultat et la marque de diversité.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)
Also published as:
JP2017516142