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1. (WO2015170735) ÉLASTOMÈRE À RÉSISTANCE ÉLEVÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2015/170735 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/063274
Date de publication : 12.11.2015 Date de dépôt international : 08.05.2015
CIB :
C08F 2/44 (2006.01) ,C08F 265/06 (2006.01) ,C08L 101/00 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
2
Procédés de polymérisation
44
Polymérisation en présence d'additifs, p.ex. plastifiants, matières colorantes, charges
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
265
Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères d'acides monocarboxyliques non saturés ou de leurs dérivés tels que définis dans le groupe C08F20/204
04
sur des polymères d'esters
06
Polymérisation d'esters acryliques ou méthacryliques sur des polymères de ces esters
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
101
Compositions contenant des composés macromoléculaires non spécifiés
Déposants :
東亞合成株式会社 TOAGOSEI CO., LTD. [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目14番1号 1-14-1, Nishi-Shimbashi, Minato-ku, Tokyo 1058419, JP
Inventeurs :
河合 道弘 KAAI Michihiro; JP
Données relatives à la priorité :
2014-09642808.05.2014JP
Titre (EN) HIGH-STRENGTH ELASTOMER
(FR) ÉLASTOMÈRE À RÉSISTANCE ÉLEVÉE
(JA) 高強度エラストマー
Abrégé :
(EN) An elastomer having a (semi-)interpenetrating network structure, which is obtained by: forming a first network structure by polymerizing and crosslinking a first monomer component; and sequentially introducing a second monomer component into the first network structure and then polymerizing or polymerizing and crosslinking the second monomer component. The first monomer component contains 0.1-30 mol% of an anionic vinyl monomer; the glass transition temperature (Tg) of a polymer obtained from the second monomer component is from -80°C to 20°C; a solvent is not substantially used in the second step; and the mass ratio of the first monomer component to the second monomer component is from 1/0.1 to 1/100.
(FR) La présente invention concerne un élastomère ayant une structure de réseau (semi-)interpénétrant, qui est obtenu par : formation d’une première structure de réseau par polymérisation et réticulation d'un premier composant monomère ; et introduction séquentielle d’un deuxième composant monomère dans la première structure de réseau et ensuite polymérisation ou polymérisation et réticulation du deuxième composant monomère. Le premier composant monomère contient de 0,1 à 30 % en moles d'un monomère vinylique anionique ; la température de transition vitreuse (Tg) d'un polymère obtenu à partir du deuxième composant monomère est de -80 °C à 20 °C ; un solvant n'est pas sensiblement utilisé dans la deuxième étape ; et le rapport en masse du premier composant monomère au deuxième composant monomère est de 1/0,1 à 1/100.
(JA) 第一の単量体成分を重合及び架橋することにより第一の網目構造を形成した後、該第一の網目構造中に第二の単量体成分を導入し、重合、又は重合及び架橋することにより得られる(セミ)相互侵入網目構造を有するエラストマーであって、 前記第一の単量体成分が、アニオン性ビニル系単量体を0.1~30mol%含み、 前記第二の単量体成分から得られる重合体のガラス転移温度(Tg)が-80~20℃であり、 前記第二工程では、実質的に溶媒が使用されることはなく、 前記第一の単量体成分及び前記第二の単量体成分の質量比が、1/0.1~1/100であるエラストマー。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)
Also published as:
JPWO2015170735