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1. (WO2015170590) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE STRUCTURE DE MONTAGE POUR ÉLÉMENTS DE RÉSEAU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international

N° de publication : WO/2015/170590 N° de la demande internationale : PCT/JP2015/062189
Date de publication : 12.11.2015 Date de dépôt international : 22.04.2015
CIB :
G02B 6/136 (2006.01) ,G02B 5/18 (2006.01) ,G02B 6/124 (2006.01) ,G02B 6/132 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6
Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10
du type guide d'ondes optiques
12
du genre à circuit intégré
13
Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
136
par gravure
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
18
Grilles de diffraction
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6
Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10
du type guide d'ondes optiques
12
du genre à circuit intégré
122
Elements optiques de base, p.ex. voies de guidage de la lumière
124
Lentilles géodésiques ou réseaux intégrés
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6
Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10
du type guide d'ondes optiques
12
du genre à circuit intégré
13
Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
132
par le dépôt de couches minces
Déposants :
日本碍子株式会社 NGK INSULATORS, LTD. [JP/JP]; 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 2-56, Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678530, JP
Inventeurs :
浅井 圭一郎 ASAI Keiichiro; JP
山口 省一郎 YAMAGUCHI Shoichiro; JP
近藤 順悟 KONDO Jungo; JP
岡田 直剛 OKADA Naotake; JP
江尻 哲也 EJIRI Tetsuya; JP
Mandataire :
細田 益稔 HOSODA Masutoshi; JP
Données relatives à la priorité :
2014-09601907.05.2014JP
Titre (EN) PRODUCTION METHOD FOR MOUNTING STRUCTURE FOR GRATING ELEMENTS
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE STRUCTURE DE MONTAGE POUR ÉLÉMENTS DE RÉSEAU
(JA) グレーティング素子の実装構造の製造方法
Abrégé :
(EN) A plurality of Bragg gratings (9) are formed at prescribed locations in a laminate having a mounting substrate (3), a cladding layer (22) upon the mounting substrate (3), and an optical material layer (23) upon the cladding layer; channel optical waveguides (16) are formed so as to include each Bragg grating; a mask covering an area corresponding to the grating elements is formed upon the optical material layer; and a side surface (1a) and end surfaces (1b) are formed in each grating element (1) as a result of etching the optical material layer and the cladding layer.
(FR) Plusieurs réseaux de Bragg (9) sont formés à des emplacements prescrits dans un stratifié ayant un substrat de montage (3), une couche de placage (22) sur le substrat de montage (3), et une couche de matériau optique (23) sur la couche de placage ; des guides d'ondes optiques à canal (16) sont formés de manière à comprendre chaque réseau de Bragg ; un masque recouvrant une zone correspondant aux éléments de réseau est formé sur la couche de matériau optique ; et une surface latérale (1a) ainsi que des surfaces d'extrémité (1b) sont formées dans chaque élément de réseau (1) en conséquence de la gravure de la couche de matériau optique et la couche de placage.
(JA)  実装基板3、実装基板3上のクラッド層22およびクラッド層上の光学材料層23を有する積層体の所定箇所に複数のブラッググレーティング9を形成し、各ブラッググレーティングを含むようにそれぞれチャンネル型光導波路16を形成し、グレーティング素子に対応する領域を被覆するマスクを光学材料層上に形成し、光学材料層およびクラッド層をエッチングすることによって各グレーティング素子1の側面1aおよび端面1bを成形する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)
Also published as:
US20170031097DE112015002127JPWO2015170590CN106233176