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1. (WO2015170005) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS SUR UNE PIÈCE EN NANOMATÉRIAU À BASE DE CARBONE ET PIÈCE EN NANOMATÉRIAU À BASE DE CARBONE TRAITÉE
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N° de publication : WO/2015/170005 N° de la demande internationale : PCT/FI2015/050298
Date de publication : 12.11.2015 Date de dépôt international : 04.05.2015
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 25.01.2016
CIB :
H01L 51/00 (2006.01) ,C01B 31/02 (2006.01) ,C01B 31/04 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51
Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
31
Carbone; Ses composés
02
Préparation du carbone; Purification
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
01
CHIMIE INORGANIQUE
B
ÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
31
Carbone; Ses composés
02
Préparation du carbone; Purification
04
Graphite
Déposants :
JYVÄSKYLÄN YLIOPISTO [FI/FI]; P.O. Box 35 FI-40014 Jyväskylän Yliopisto, FI
Inventeurs :
PETTERSSON, Mika; FI
JOHANSSON, Andreas; FI
AUMANEN, Jukka; FI
MYLLYPERKIÖ, Pasi; FI
KOIVISTOINEN, Juha; FI
Mandataire :
TAMPEREEN PATENTTITOIMISTO OY; Visiokatu 1 33720 Tampere, FI
Données relatives à la priorité :
2014540805.05.2014FI
Titre (EN) A METHOD FOR PATTERNING A PIECE OF CARBON NANOMATERIAL AND A PROCESSED PIECE OF CARBON NANOMATERIAL
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS SUR UNE PIÈCE EN NANOMATÉRIAU À BASE DE CARBONE ET PIÈCE EN NANOMATÉRIAU À BASE DE CARBONE TRAITÉE
Abrégé :
(EN) A method for patterning a piece of carbon nanomaterial (100). The method comprises generating a first light pulse sequence (150) with first light pulse sequence property values, the first light pulse sequence (150) comprising at least one light pulse and exposing a first area (120) of the piece of carbon nanomaterial (100) to said first light pulse sequence (150) in a first process environment having a first oxygen content, without exposing at least part of the piece of carbon nanomaterial (100) to said first light pulse sequence (150). In this way, the method comprises oxidizing locally, in the first area (120), at least some carbon atoms of the piece of carbon nanomaterial (100) in such a way that at most 10 % of the carbon atoms of the first area (120) are removed from the first area (120); thereby patterning the first area (120) of the piece of carbon nanomaterial (100). In addition a processed piece of carbon nanomaterial (400).
(FR) L'invention concerne un procédé de formation de motifs sur une pièce en nanomatériau à base de carbone (100). Le procédé comprend la génération d'une première séquence d'impulsions de lumière (150) avec des premières valeurs de propriété de séquence d'impulsions de lumière, la première séquence d'impulsions de lumière (150) comprenant au moins une impulsion de lumière, et l'exposition d'une première zone (120) de la pièce en nanomatériau à base de carbone (100) à ladite première séquence d'impulsions de lumière (150) dans un premier environnement de traitement présentant une première teneur en oxygène, sans exposer au moins une partie de la pièce en nanomatériau à base de carbone (100) à ladite première séquence d'impulsions de lumière (150). De cette manière, le procédé comprend l'oxydation locale, dans la première zone (120), d'au moins certains atomes de carbone de la pièce en nanomatériau à base de carbone (100) de telle sorte qu'un maximum de 10 % des atomes de carbone de la première zone (120) sont retirés de la première zone (120), formant ainsi des motifs sur la première zone (120) de la pièce en nanomatériau à base de carbone (100). L'invention concerne également une pièce en nanomatériau à base de carbone traitée (400).
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)
Also published as:
US20170207391KR1020170008214