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1. (WO2015142914) FABRICATION ASSISTÉE PAR ÉLASTOMÈRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/142914    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/021057
Date de publication : 24.09.2015 Date de dépôt international : 17.03.2015
CIB :
B05D 5/12 (2006.01), B23P 25/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H05K 1/11 (2006.01)
Déposants : NORTHEASTERN UNIVERSITY [US/US]; 360 Huntington Avenue Boston, MA 02115 (US)
Inventeurs : SOMU, Sivasubramanian; (US).
RABINOWITZ, Jake; (US)
Mandataire : HYMEL, Lin, J.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/954,234 17.03.2014 US
Titre (EN) ELASTOMER-ASSISTED MANUFACTURING
(FR) FABRICATION ASSISTÉE PAR ÉLASTOMÈRE
Abrégé : front page image
(EN)Methods of performing lithography in films attached to elastomeric substrates are provided, including methods of performing optical lithography using photoresist films on a stretched elastomeric substrate. Also described are flexible electronic devices made by the methods, and patterned substrates having small voids fabricated by the methods.
(FR)La présente invention concerne des procédés de réalisation de lithographies dans des films fixés à des substrats élastomères, y compris des procédés permettant de réaliser une lithographie optique à l'aide des films de résine photosensible sur un substrat élastomère étiré. L'invention se rapporte également à des dispositifs électroniques flexibles réalisés à l'aide des procédés et à des substrats à motifs comprenant des vides de petite taille fabriqués à l'aide des procédés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)