WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015142778) COMPOSITION DE GRAVURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/142778    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/020863
Date de publication : 24.09.2015 Date de dépôt international : 17.03.2015
CIB :
C23F 1/10 (2006.01), C23F 1/40 (2006.01), C23F 1/44 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS U.S.A., INC. [US/US]; 80 Circuit Drive N. Kingstown, Rhode Island 02852 (US)
Inventeurs : DORY, Thomas; (US).
KNEER, Emil A.; (US).
TAKAHASHI, Tomonori; (US)
Mandataire : WEFERS, Marc M.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/954,698 18.03.2014 US
Titre (EN) ETCHING COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE GRAVURE
Abrégé : front page image
(EN)This disclosure relates to etching compositions containing 1) at least one oxidizing agent; 2) at least one chelating agent; 3) at least one metal corrosion inhibitor; 4) at least one organic solvent; 5) at least one amidine base; and 6) water.
(FR)La présente invention concerne des compositions de gravure contenant : 1) au moins un agent oxydant ; 2) au moins un agent de chélation ; 3) au moins un inhibiteur de corrosion métallique ; 4) au moins un solvant organique ; 5) au moins une base amidine ; et 6) de l'eau.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)