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1. (WO2015142747) CRÉATION DE CLASSIFICATEURS DE DÉFAUTS ET DE FILTRES DE NUISANCES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/142747    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/020790
Date de publication : 24.09.2015 Date de dépôt international : 16.03.2015
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; KLA-TENCOR CORPORATION Legal Department One Technology Drive, Milpitas Milpitas, California 95035 (US)
Inventeurs : KONURU, Raghavan; (IN).
BHATTI, Naema; (US).
LENNEK, Michael; (US).
PLIHAL, Martin; (US)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; (US)
Données relatives à la priorité :
61/954,339 17.03.2014 US
14/505,446 02.10.2014 US
Titre (EN) CREATING DEFECT CLASSIFIERS AND NUISANCE FILTERS
(FR) CRÉATION DE CLASSIFICATEURS DE DÉFAUTS ET DE FILTRES DE NUISANCES
Abrégé : front page image
(EN)Methods and systems for setting up a classifier for defects detected on a wafer are provided. One method includes generating a template for a defect classifier for defects detected on a wafer and applying the template to a training data set. The training data set includes information for defects detected on the wafer or another wafer. The method also includes determining one or more parameters for the defect classifier based on results of the applying step.
(FR)L’invention concerne des procédés et des systèmes permettant d’établir un classificateur pour des défauts détectés sur une plaquette. Un procédé consiste à générer un modèle pour un classificateur de défauts pour les défauts détectés sur une plaquette et à appliquer le modèle à un ensemble de données d’apprentissage. L’ensemble de données d’apprentissage inclut des informations pour les défauts détectés sur la plaquette ou sur une autre plaquette. Le procédé consiste également à déterminer un ou plusieurs paramètres pour le classificateur de défauts sur la base de résultats de l’étape d’application.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)