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1. (WO2015142578) CHAMBRE AMÉLIORÉE DE TRAITEMENT THERMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/142578    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/019829
Date de publication : 24.09.2015 Date de dépôt international : 11.03.2015
CIB :
H01L 21/02 (2006.01), H01L 21/20 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventeurs : RANISH, Joseph M.; (US).
HUNTER, Aaron Muir; (US)
Mandataire : PATTERSON, B. Todd; (US)
Données relatives à la priorité :
14/219,644 19.03.2014 US
Titre (EN) IMPROVED THERMAL PROCESSING CHAMBER
(FR) CHAMBRE AMÉLIORÉE DE TRAITEMENT THERMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments described herein provide a substrate processing apparatus that includes a vacuum chamber comprising a first dome and a second dome, a substrate support disposed inside the vacuum chamber between the first and second domes, a collimated energy source arranged in a compartmented housing and positioned proximate the second dome, wherein the second dome is between the collimated energy source and the substrate support. At least a portion of the second dome and the substrate support may be optically transparent to the collimated energy from the collimated energy source.
(FR)Les modes de réalisation de cette invention concernent un appareil de traitement de substrat qui comprend une chambre à vide comprenant un premier dôme et un second dôme, un support de substrat disposé à l'intérieur de la chambre à vide entre le premier et le second dôme, une source d'énergie collimatée agencée dans un boîtier compartimenté et positionnée à proximité du second dôme, ledit second dôme étant disposé entre la source d'énergie collimatée et le support de substrat. Au moins une partie du second dôme et du support de substrat peut être optiquement transparente à l'énergie collimatée provenant de la source d'énergie collimatée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)