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1. (WO2015142091) CHALUMEAU À PLASMA À ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/142091    N° de la demande internationale :    PCT/KR2015/002702
Date de publication : 24.09.2015 Date de dépôt international : 19.03.2015
CIB :
H05H 1/26 (2006.01), H05H 1/30 (2006.01)
Déposants : KOREA BASIC SCIENCE INSTITUTE [KR/KR]; (Eoeun-dong)169-148, Gwahak-ro Yuseong-gu Daejeon 305-806 (KR)
Inventeurs : HONG, Yong-Cheol; (KR)
Mandataire : NAM, Gunpil; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2014-0031927 19.03.2014 KR
Titre (EN) ELECTROMAGNETIC WAVE PLASMA TORCH
(FR) CHALUMEAU À PLASMA À ONDES ÉLECTROMAGNÉTIQUES
(KO) 전자파 플라즈마 토치
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to an electromagnetic wave plasma torch and, more particularly, to a high-capacity electromagnetic wave plasma torch. An electromagnetic wave plasma torch, according to an embodiment of the present invention, comprises: a plasma generating unit; a microwave generating unit for transmitting microwaves to the plasma generating unit; and a plasma source gas injecting unit for injecting a plasma source gas into the plasma generating unit, wherein the microwave generating unit includes a waveguide for transmitting microwaves to the plasma generating unit, the plasma generating unit includes a discharge tube that vertically passes through the waveguide, and the width of the waveguide is na (n is an integer larger than or equal to 2) when the width of a waveguide in a dominant mode for transmitting a specific frequency of electromagnetic waves oscillated from the microwave generating unit is a.
(FR)La présente invention se rapporte à un chalumeau à plasma à ondes électromagnétiques et, plus particulièrement, à un chalumeau à plasma à ondes électromagnétiques à haute capacité. Selon un mode de réalisation de la présente invention, un chalumeau à plasma à ondes électromagnétiques comprend : une unité de génération de plasma ; une unité de génération de micro-ondes destinée à transmettre des micro-ondes à l'unité de génération de plasma ; et une unité d'injection de gaz de source de plasma destinée à injecter un gaz de source de plasma dans l'unité de génération de plasma, l'unité de génération de micro-ondes comprenant un guide d'ondes destiné à transmettre des micro-ondes à l'unité de génération de plasma, l'unité de génération de plasma comprenant un tube de décharge qui passe verticalement à travers le guide d'ondes, et la largeur du guide d'ondes étant na (n est un nombre entier supérieur ou égal à 2) lorsque la largeur d'un guide d'onde dans un mode dominant pour transmettre une fréquence spécifique des ondes électromagnétiques amenées à osciller à partir de l'unité de génération de micro-ondes est a.
(KO)본 발명은 전자파 플라즈마 토치에 관한 것이고, 특히 대용량의 전자파 플라즈마 토치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 플라즈마 토치는, 플라즈마 발생부; 상기 플라즈마 발생부로 마이크로웨이브를 전송하는 마이크로웨이브 발생부; 및 상기 플라즈마 발생부로 플라즈마 소스 가스를 주입하는 플라즈마 소스 가스 주입부를 포함하며, 상기 마이크로웨이브 발생부는 상기 플라즈마 발생부로 마이크로웨이브를 전송하기 위한 도파관을 포함하고, 상기 플라즈마 발생부는 방전관을 포함하고, 상기 방전관은 상기 도파관에 수직으로 관통하고 있으며, 상기 마이크로웨이브 발생부로부터 발진되는 특정 주파수의 전자파의 전송을 위한 도미넌트 모드(dominant mode)의 도파관의 폭이 a인 경우, 상기 도파관의 폭은 na(n은 2이상의 정수)이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)