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1. (WO2015141743) OUTIL DE COUPE REVÊTU ET PROCÉDÉ POUR SA PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/141743    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/058116
Date de publication : 24.09.2015 Date de dépôt international : 18.03.2015
CIB :
B23B 27/14 (2006.01), B23C 5/16 (2006.01), C23C 14/06 (2006.01)
Déposants : HITACHI METALS,LTD. [JP/JP]; 2-70, Konan 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1088224 (JP).
MITSUBISHI HITACHI TOOL ENGINEERING,LTD. [JP/JP]; 31-11, Ryogoku 4-chome, Sumida-ku, Tokyo 1300026 (JP)
Inventeurs : SASAKI, Tomoya; (JP).
INOUE, Kenichi; (JP)
Mandataire : NAKAJIMA, Jun; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-055563 18.03.2014 JP
Titre (EN) COATED CUTTING TOOL AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) OUTIL DE COUPE REVÊTU ET PROCÉDÉ POUR SA PRODUCTION
(JA) 被覆切削工具及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An embodiment of the present invention is a coated cutting tool comprising a base material and a hard coating film, wherein: the hard coating film is made of a nitride or a carbonitride in which the Al content is from 50 at.% to 68 at.% inclusive, the Cr content is from 20 at.% to 46 at.% inclusive, and the Si content is from 4 at.% to 15 at.% inclusive to the total amount of metal (including semimetal) elements; if the total of the metal (including semimetal) elements, nitrogen, oxygen, and carbon is 100 at.%, the atomic percentage (at.%) A of the metal (including semimetal) elements and the atomic percentage (at.%) B of nitrogen satisfy the relationship 1.03 ≤ B/A ≤ 1.07; and, in an intensity profile found from an X-ray diffraction pattern or a selected area diffraction pattern of a transmission electron microscope, the peak intensity ascribable to the (200) plane or the (111) plane of a face-centered cubic lattice structure exhibits the maximum intensity.
(FR)Un mode de réalisation de la présente invention porte sur un outil de coupe revêtu, lequel outil comprend un matériau de base et un film de revêtement dur, et dans lequel : le film de revêtement dur est constitué par un nitrure ou un carbonitrure dans lequel la teneur en Al est de 50 % en pourcentage atomique à 68 % en pourcentage atomique inclus, la teneur en Cr est de 20 % en pourcentage atomique à 46 % en pourcentage atomique inclus, et la teneur en Si est de 4 % en pourcentage atomique à 15 % en pourcentage atomique inclus par rapport à la quantité totale d'éléments métalliques (y compris les éléments semi-métalliques) ; si le total des éléments métalliques (y compris les éléments semi-métalliques), de l'azote, de l'oxygène et du carbone est de 100 % en pourcentage atomique, le pourcentage atomique (% at.) A des éléments métalliques (y compris les éléments semi-métalliques) et le pourcentage atomique (% at.) B de l'azote satisfont à la relation 1,03 ≤ B/A ≤ 1,07 ; et, dans un profil d'intensité trouvé à partir d'un motif de diffraction de rayons X ou d'un motif de diffraction de zone sélectionnée d'un microscope électronique à transmission, le pic d'intensité pouvant être attribué au plan (200) ou au plan (111) d'une structure de treillis cubique à faces centrées présente l'intensité maximale.
(JA) 本発明の一実施形態は、基材と硬質皮膜とを有し、硬質皮膜は、金属(半金属を含む)元素の総量に対して、Alの含有比率が50原子%以上68原子%以下であり、Crの含有比率が20原子%以上46原子%以下であり、Siの含有比率が4原子%以上15原子%以下である窒化物又は炭窒化物からなり、かつ、金属(半金属を含む)元素、窒素、酸素および炭素の合計を100原子%とした場合の金属(半金属を含む)元素の原子比率(原子%)Aと窒素の原子比率(原子%)Bとが1.03≦B/A≦1.07の関係を満たし、X線回折パターンまたは透過型電子顕微鏡の制限視野回折パターンから求められる強度プロファイルにおいて、面心立方格子構造の(200)面または(111)面に起因するピーク強度が最大強度を示す、被覆切削工具を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)