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1. (WO2015141718) FILM À FAIBLE INDICE DE RÉFRACTION ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/141718    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/058043
Date de publication : 24.09.2015 Date de dépôt international : 18.03.2015
CIB :
G02B 1/111 (2015.01), B32B 9/00 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 183/04 (2006.01), C09D 183/08 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117 (JP)
Inventeurs : HIGANO Satoko; (JP).
YAMASAKI Kazuhiko; (JP)
Mandataire : SHIGA Masatake; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-054996 18.03.2014 JP
2015-050482 13.03.2015 JP
Titre (EN) LOW REFRACTIVE INDEX FILM AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) FILM À FAIBLE INDICE DE RÉFRACTION ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 低屈折率膜及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is a low refractive index film that is obtained by applying a composition that contains an aggregate of aggregated fumed silica particles and a hydrolysate of silicon alkoxide on a substrate or on a layer that is formed on the substrate and firing the result. The porosity of the low refractive index film is in the range of 15-55%, the refractive index directly after film formation is in the range of 1.15-1.39, and the rate of change of the refractive index is 8% or less.
(FR)La présente invention porte sur un film à faible indice de réfraction qui est obtenu par l'application d'une composition qui contient un agrégat de particules de silice agrégées et sublimées et un hydrolysat d'alcoxyde de silicium sur un substrat ou sur une couche qui est formée sur le substrat, et par la calcination du résultat. La porosité du film à faible indice de réfraction se trouve dans une plage de 15 à 55 %, l'indice de réfraction directement après la formation du film se trouve dans une plage de 1,15 à 1,39, et le taux de changement de l'indice de réfraction est d'au plus 8 % .
(JA) 本発明は、基材又は基材の上に形成された層上に、ヒュームドシリカ粒子同士が凝集する凝集体とケイ素アルコキシドの加水分解物を含む組成物を塗布し、焼成することにより得られた低屈折率膜であり、空隙率が15~55%の範囲であり、成膜直後の屈折率が1.15~1.39の範囲であり、屈折率の変化率が8%以下である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)