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1. (WO2015141542) SUBSTRAT EN ALUMINIUM POUR SUPPORTS D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/141542    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/057215
Date de publication : 24.09.2015 Date de dépôt international : 11.03.2015
CIB :
G11B 5/73 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01)
Déposants : KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) [JP/JP]; 2-4, Wakinohama-Kaigandori 2-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6518585 (JP)
Inventeurs : SUZUKI Tetsuo; .
FUJIWARA Naoya;
Mandataire : EIKOH PATENT FIRM, P.C.; Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-053730 17.03.2014 JP
Titre (EN) ALUMINUM SUBSTRATE FOR MAGNETIC RECORDING MEDIA
(FR) SUBSTRAT EN ALUMINIUM POUR SUPPORTS D'ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUES
(JA) 磁気記録媒体用アルミニウム基板
Abrégé : front page image
(EN)This aluminum substrate for magnetic recording media is obtained by forming SiO2 films, each having a thickness of from 6.0 μm to 15.0 μm (inclusive), on both surfaces of an aluminum plate. Each of the SiO2 films has a compressive stress of from 450 MPa to 1,000 MPa (inclusive).
(FR)L'invention porte sur un substrat en aluminium pour des supports d'enregistrement magnétiques, qui est obtenu par formation de films de SiO2, ayant chacun une épaisseur de 6,0 μm à 15,0 μm (inclus), sur les deux surfaces d'une plaque en aluminium. Chacun des films de SiO2 a une contrainte de compression comprise entre 450 MPa et 1 000 MPa (inclus).
(JA) 本発明の磁気記録媒体用アルミニウム基板は、アルミニウム板の両面に、厚さ6.0μm以上、15.0μm以下のSiO膜が成膜されており、前記SiO膜は450MPa以上、1000MPa以下の圧縮応力を有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)