WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015141504) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE, GÉNÉRATEUR D'ACIDE SENSIBLE AU RAYONNEMENT ET COMPOSÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/141504    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/056753
Date de publication : 24.09.2015 Date de dépôt international : 06.03.2015
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), C07C 309/19 (2006.01), C07C 309/23 (2006.01), C07D 307/00 (2006.01), C07D 333/50 (2006.01), C09K 3/00 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
Inventeurs : SAITO Ryuichi; (JP).
NAMAI Hayato; (JP)
Mandataire : AMANO Kazunori; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-057300 19.03.2014 JP
2015-002710 08.01.2015 JP
Titre (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, RADIATION-SENSITIVE ACID GENERATOR, AND COMPOUND
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE, GÉNÉRATEUR D'ACIDE SENSIBLE AU RAYONNEMENT ET COMPOSÉ
(JA) 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is a radiation-sensitive resin composition containing a radiation-sensitive acid generator and a polymer having a structural unit containing an acid-dissociable group, the radiation-sensitive acid generator containing a compound represented by formula (A). In formula (A), Rx is an alicyclic hydrocarbon group, an aliphatic heterocyclic group containing -O-, -COO-, -OCOO-, -S-, -SO2O-, -NHCOO-, or -SiR32 at a carbon-carbon bond of the alicyclic hydrocarbon group, or a group resulting from substituting a hydrogen atom of the alicyclic hydrocarbon group or aliphatic heterocyclic group with -OH, -CN, a hydrocarbon group, an oxyhydrocarbon group, or a halogen atom. Rt and Ry are each bonded to the same carbon atom or two adjacent carbon atoms in the ring structure of Rx. M+ is a radiation-sensitive onium cation.
(FR)La présente invention est une composition de résine sensible au rayonnement contenant un générateur d'acide sensible au rayonnement et un polymère ayant une unité structurale contenant un groupe dissociable par un acide, le générateur d'acide sensible au rayonnement contenant un composé représenté par la formule (A). Dans la formule (A), Rx est un groupe hydrocarboné alicyclique, un groupe hétérocyclique aliphatique contenant-O -,-COO -,-OCOO -,-S -,-SO2O-, -NHCOO- ou -SiR3 2 au niveau d'une liaison carbone-carbone du groupe hydrocarboné alicyclique, ou un groupe résultant de la substitution d'un atome d'hydrogène du groupe hydrocarboné alicyclique ou groupe hétérocyclique aliphatique avec-OH, -CN, un groupe hydrocarboné, un groupe oxyhydrocarboné, ou un atome d'halogène. Rt and Ry sont chacun liés au même atome de carbone ou à deux atomes de carbone adjacents dans la structure cyclique de Rx. M+ est un cation d'onium sensible au rayonnement.
(JA) 本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生剤を含有し、上記感放射線性酸発生剤が下記式(A)で表される化合物を含む感放射線性樹脂組成物である。式(A)中、Rは、脂環式炭化水素基、上記脂環式炭化水素基の炭素-炭素間に-O-、-COO-、-OCOO-、-S-、-SOO-、-NHCOO-、-SiR-を含む脂肪族複素環基、又は上記脂環式炭化水素基及び上記脂肪族複素環基が有する水素原子を-OH、-CN、炭化水素基、オキシ炭化水素基、ハロゲン原子で置換した基であり、R及びRは、Rの環構造上の同一炭素原子又は互いに隣接する2つの炭素原子にそれぞれ結合している。Mは、感放射線性オニウムカチオンである。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)