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1. (WO2015141138) FILM ET STRUCTURE DE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/141138    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/000900
Date de publication : 24.09.2015 Date de dépôt international : 24.02.2015
CIB :
H01L 51/00 (2006.01), H01L 51/10 (2006.01), H01L 27/32 (2006.01)
Déposants : SONY CORPORATION [JP/JP]; 1-7-1, Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075 (JP)
Inventeurs : ONO, Hideki; (JP)
Mandataire : TSUBASA PATENT PROFESSIONAL CORPORATION; 3F, Sawada Building 15-9, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-056138 19.03.2014 JP
Titre (EN) FILM AND FILM STRUCTURE
(FR) FILM ET STRUCTURE DE FILM
Abrégé : front page image
(EN)There is provided a film including: a first particle layer including a plurality of first particulate substances and having a first average primary particle size; and a second particle layer including a plurality of second particulate substances, having a second average primary particle size, and laminated on the first particle layer. The second average primary particle size is different from the first average primary particle size.
(FR)La présente invention concerne un film comprenant: une première couche de particules comprenant une pluralité de premières substances particulaires et présentant une première granulométrie moyenne des particules primaires; et une seconde couche de particules comprenant une pluralité de secondes substances particulaires, présentant une seconde granulométrie moyenne des particules primaires, et déposée en couche sur la première couche de particules. La seconde granulométrie moyenne des particules primaires est différente de la première granulométrie moyenne des particules primaires.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)