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1. (WO2015139964) APPAREIL ET PROCÉDÉ POUR LE NETTOYAGE ACTIF D'UN ÉLÉMENT OPTIQUE EUV AVEC UN CHAMP DE PLASMA RF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/139964    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/054588
Date de publication : 24.09.2015 Date de dépôt international : 05.03.2015
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : ERSHOV, Alexander, I.; (US)
Mandataire : SLENDERS, Peter; (NL)
Données relatives à la priorité :
14/218,707 18.03.2014 US
Titre (EN) APPARATUS FOR AND METHOD OF ACTIVE CLEANING OF EUV OPTIC WITH RF PLASMA FIELD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ POUR LE NETTOYAGE ACTIF D'UN ÉLÉMENT OPTIQUE EUV AVEC UN CHAMP DE PLASMA RF
Abrégé : front page image
(EN)Apparatus for and method of cleaning an electrically conductive surface of an optical element (30) in a system for generating extreme ultraviolet radiation in which electrically conductive surface is used as an electrode for generating a plasma which cleans the surface.
(FR)La présente invention concerne un appareil et un procédé de nettoyage d'une surface électriquement conductrice d'un élément optique (30) dans un système assurant la génération d'un rayonnement ultraviolet extrême dans lequel la surface électriquement conductrice est utilisée comme électrode pour générer un plasma qui nettoie la surface.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)