WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015139951) OPTIMISATION TENANT COMPTE DE L'ERREUR DE PLACEMENT DE MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/139951    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/054448
Date de publication : 24.09.2015 Date de dépôt international : 03.03.2015
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G03F 1/36 (2012.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : HSU, Duan-Fu, Stephen; (US).
JIA, Jianjun; (US).
LIU, Xiaofeng; (US).
ZHANG, Cuiping; (US)
Mandataire : PETERS, John; (NL)
Données relatives à la priorité :
61/955,015 18.03.2014 US
Titre (EN) PATTERN PLACEMENT ERROR AWARE OPTIMIZATION
(FR) OPTIMISATION TENANT COMPTE DE L'ERREUR DE PLACEMENT DE MOTIF
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed herein is a computer-implemented method to improve a lithographic process for imaging a portion of a design layout onto a substrate using a lithographic projection apparatus, the method comprising: computing a multi-variable cost function of a plurality of design variables that are characteristics of the lithographic process, and reconfiguring the characteristics of the lithographic process by adjusting the design variables until a predefined termination condition is satisfied. The multi-variable cost function may be a function of one or more pattern shift errors. Reconfiguration of the characteristics may be under one or more constraints on the one or more pattern shift errors.
(FR)L'invention porte sur un procédé mis en œuvre par ordinateur pour améliorer un processus lithographique pour imager une partie d'une topologie de conception sur un substrat à l'aide d'un appareil de projection lithographique, le procédé consistant : en le calcul d'une fonction de coût à variables multiples d'une pluralité de variables de conception qui sont des caractéristiques du processus lithographique, et en la reconfiguration des caractéristiques du processus lithographique par réglage des variables de conception jusqu'à ce qu'une condition de fin prédéfinie soit satisfaite. La fonction de coût à variables multiples peut être une fonction d'une ou plusieurs erreurs de décalage de motif. La reconfiguration des caractéristiques peut être réalisée sous une ou plusieurs contraintes sur la ou les erreurs de décalage de motif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)