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1. (WO2015138695) GÉOMÉTRIE DE FILTRE ET DE SOUFFLANTE POUR UN ÉCHANTILLONNEUR DE PARTICULES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/138695    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/020129
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 12.03.2015
CIB :
G01N 21/954 (2006.01), G01N 21/94 (2006.01), G01N 1/22 (2006.01)
Déposants : PARTICLE MEASURING SYSTEMS, INC. [US/US]; 5475 Airport Boulevard Boulder, Colorado 80301 (US)
Inventeurs : KETCHAM, Cliff; (US).
HARTIGAN, Paul B.; (US).
ADKINS, Ronald W.; (US)
Mandataire : CURTIS, Michael J.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/953,101 14.03.2014 US
Titre (EN) FILTER AND BLOWER GEOMETRY FOR PARTICLE SAMPLER
(FR) GÉOMÉTRIE DE FILTRE ET DE SOUFFLANTE POUR UN ÉCHANTILLONNEUR DE PARTICULES
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides devices and methods for sampling, detecting and/or characterizing particles. Devices and methods of the invention, including particle samplers, impactors and counters, include a filter component for removing particles in the exhaust flow of the device, for example, to eliminate or minimize the potential for the device itself to provide source of particles in an environment undergoing particle monitoring. This aspect of the present devices and methods is particularly useful for monitoring particles in manufacturing environments requiring low levels of particles, such as cleanroom environments for electronics manufacturing and aseptic environments for manufacturing pharmaceutical and biological products.
(FR)La présente invention concerne des dispositifs et des procédés pour échantillonner, détecter et/ou caractériser des particules. Des dispositifs et des procédés selon l'invention, comprenant des échantillonneurs, des impacteurs et des compteurs de particules, comportent un composant de filtrage servant à supprimer des particules dans le flux de sortie du dispositif, par exemple, pour éliminer ou réduire à un minimum le potentiel pour le dispositif d'être lui-même une source de particules dans un environnement soumis à une surveillance de particules. Cet aspect des dispositifs et procédés selon la présente invention est particulièrement utile pour la surveillance de particules dans des environnements de fabrication exigeant de faibles niveaux de particules, tels que des environnements de salles blanches pour la fabrication de composants électroniques et des environnements aseptiques pour la fabrication de produits pharmaceutiques et biologiques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)