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1. (WO2015138390) COMPLEXES DE SILYLCYCLOPENTADIÉNYLE ET DE SILYLALLYLE DE MOLYBDÈNE ET LEUR UTILISATION DANS LE DÉPÔT DE COUCHES MINCES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/138390    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/019604
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 10.03.2015
CIB :
C07F 11/00 (2006.01), C23C 16/00 (2006.01)
Déposants : SIGMA-ALDRICH CO. LLC [US/US]; 3050 Spruce Street St. Louis, Missouri 63103 (US)
Inventeurs : GARRATT, Shaun; (GB).
WILLIAMS, Paul; (GB)
Mandataire : RAKERS, Leanne M.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/952,633 13.03.2014 US
Titre (EN) MOLYBDENUM SILYLCYCLOPENTADIENYL AND SILYLALLYL COMPLEXES AND USE THEREOF IN THIN FILM DEPOSITION
(FR) COMPLEXES DE SILYLCYCLOPENTADIÉNYLE ET DE SILYLALLYLE DE MOLYBDÈNE ET LEUR UTILISATION DANS LE DÉPÔT DE COUCHES MINCES
Abrégé : front page image
(EN)Molybdenum complexes and use thereof in thin film deposition, such as CVD and ALD are provided herein. The molybdenum complexes correspond in structure to Formula (I): wherein R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, and R10 are independently selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, and trialkylsilyl; and at least one of R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, and R10 is trialkylsilyl.
(FR)Cette invention concerne des complexes de molybdène et leur utilisation dans le dépôt de couches minces, comme les procédés CVD et ALD. Les complexes de molybdène selon l'invention correspondent en termes de structure à la Formule (I) : où R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, et R10 sont indépendamment choisis dans le groupe constitué par un atome d'hydrogène, un groupe alkyle, et trialkylsilyle; et au moins un des R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, et R10 est un groupe trialkylsilyle.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)