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1. (WO2015138362) PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR FORMER UN MOTIF SUR UNE SURFACE À L'AIDE D'UNE LITHOGRAPHIE À FAISCEAU MULTIPLE DE PARTICULES CHARGÉES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/138362    N° de la demande internationale :    PCT/US2015/019545
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 10.03.2015
CIB :
G06F 17/50 (2006.01)
Déposants : D2S, INC. [US/US]; 4040 Moorpark Avenue, #250 San Jose, California 95117 (US)
Inventeurs : FUJIMURA, Akira; (US)
Mandataire : MUELLER, Heather; (US)
Données relatives à la priorité :
61/950,353 10.03.2014 US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR FORMING A PATTERN ON A SURFACE USING MULTI-BEAM CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME POUR FORMER UN MOTIF SUR UNE SURFACE À L'AIDE D'UNE LITHOGRAPHIE À FAISCEAU MULTIPLE DE PARTICULES CHARGÉES
Abrégé : front page image
(EN)A method for fracturing or mask data preparation is disclosed in which a plurality of single-beam charged particle beam shots is used to create a plurality of multi-beam shots, where multi-beam exposure information is determined for each of the single-beam shots, and then the resulting multi-beam exposure information is used to generate a set of multi-beam shots. Additionally, a method for fracturing or mask data preparation is disclosed in which a plurality of single-beam shots is used to generate a set of multi-beam shots by calculating an image which the single-beam shots would form on a surface.
(FR)L'invention porte sur un procédé pour la fracturation ou la préparation de données de masque dans lequel une pluralité de tirs de faisceau de particules chargées à faisceau unique est utilisée pour créer une pluralité de tirs multi-faisceau, où des informations d'exposition multi-faisceau sont déterminées pour chacun des tirs à faisceau unique, et ensuite les informations d'exposition multi-faisceau résultantes sont utilisées pour générer un ensemble de tirs multi-faisceau. En outre, un procédé de fracturation ou de préparation de données de masque est décrit, dans lequel une pluralité de tirs à faisceau unique est utilisée pour générer un ensemble de tirs multi-faisceau par calcul d'une image que les tirs à faisceau unique pourrait former sur une surface.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)