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1. (WO2015137464) PROCÉDÉ D'INSPECTION DE PLAQUE ORIGINALE, PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE PLAQUE ORIGINALE POUR INSPECTION, ET PLAQUE ORIGINALE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/137464    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/057363
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 12.03.2015
CIB :
G01B 11/00 (2006.01), G01B 11/02 (2006.01), G01N 21/88 (2006.01), G01N 21/956 (2006.01)
Déposants : KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA [JP/JP]; 1-1, Shibaura 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058001 (JP)
Inventeurs : MORITA Seiji; (JP).
KAWAMONZEN Yoshiaki; (JP).
SUGIMURA Shinobu; (JP)
Mandataire : KATSUNUMA Hirohito; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-050869 13.03.2014 JP
Titre (EN) ORIGINAL PLATE INSPECTION METHOD, METHOD FOR PREPARING ORIGINAL PLATE FOR INSPECTION, AND ORIGINAL PLATE
(FR) PROCÉDÉ D'INSPECTION DE PLAQUE ORIGINALE, PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE PLAQUE ORIGINALE POUR INSPECTION, ET PLAQUE ORIGINALE
(JA) 原版の検査方法、検査用原版の作製方法および、原版
Abrégé : front page image
(EN) This original plate inspection method has: a step for preparing an original plate for inspection, having a second pattern that corresponds to a first pattern provided to the original plate, and a third pattern that is provided to a second surface which is the surface opposite from the surface provided with the second pattern; a step for enlarging a lithographic original plate for inspection; a step, following enlargement of the original plate for inspection, for comparing the dimensions of the pre-enlargement third pattern and the post-enlargement third pattern, and calculating the enlargement factor of the third pattern; a step, following enlargement of the lithographic original plate for inspection, for acquiring defect location information for the second pattern; and a step for acquiring defect location information for the first pattern of the original plate, on the basis of the defect location information for the post-enlargement second pattern, and the enlargement factor of the post-enlargement third pattern.
(FR) La présente invention concerne un procédé d'inspection de plaque originale qui comprend : une étape de préparation d'une plaque originale pour inspection, ayant un deuxième motif qui correspond à un premier motif disposé sur la plaque originale, et un troisième motif qui est disposé sur une deuxième surface qui est la surface opposée à la surface pourvue du deuxième motif; une étape pour agrandir une plaque originale lithographique pour inspection; une étape, après l'agrandissement de la plaque originale pour inspection, de comparaison des dimensions du troisième motif pré-agrandissement et du troisième motif de post-agrandissement, et calcul du facteur d'agrandissement du troisième motif; une étape, après l'agrandissement de la plaque originale lithographique pour inspection, d'acquisition d'informations d'emplacement de défaut pour le deuxième motif; et une étape d'acquisition d'informations d'emplacement de défaut pour le premier motif de la plaque originale, sur la base des informations d'emplacement de défaut pour le deuxième motif post-agrandissement, et du facteur d'agrandissement du troisième motif post-agrandissement.
(JA) 実施形態の原版の検査方法は、原版に設けられた第1パターンに対応する第2パターンと、前記第2パターンが設けられた面の反対面の第2面に第3パターンが設けられた検査用原版を用意する工程と、前記検査用リソグラフィ原版を拡大させる工程と、前記検査用原版を拡大後、拡大前の第3パターンと拡大後の前記第3パターンの寸法を比較して前記第3パターンの拡大率を算出する工程と、前記検査用リソグラフィ原版を拡大後、前記第2パターンの欠陥の位置情報を取得する工程と、拡大後の前記第2パターンの欠陥の位置情報と、拡大後の前記第3パターンの拡大率とに基づいて、前記原版の前記第1パターンの欠陥の位置情報を取得する工程と、を有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)