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1. (WO2015137410) DISPOSITIF DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/137410    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/057182
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 11.03.2015
CIB :
B01F 7/32 (2006.01), B01D 29/90 (2006.01), B01D 35/027 (2006.01), B01F 7/16 (2006.01), C02F 1/20 (2006.01), C02F 3/10 (2006.01), F04D 7/04 (2006.01)
Déposants : AQUATECHS CO., LTD. [JP/JP]; 3-2-22, Tsurugamai, Fujimino-shi, Saitama 3560041 (JP).
EDDY PLUS CO., LTD. [JP/JP]; 1-16-17, Harigaya, Urawa-ku, Saitama-shi, Saitama 3300075 (JP)
Inventeurs : MURATA Kazuhisa; (JP)
Mandataire : SAHARA Masashi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-049031 12.03.2014 JP
Titre (EN) PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT
(JA) 処理装置
Abrégé : front page image
(EN)A processing device (1) is provided with: a processing region (10) for conducting a prescribed process on a fluid to be processed (100); a discharge opening (20) for discharging the fluid to be processed (100) after having been processed; and a supply rotating body (40) for supplying the fluid to be processed (100) into the processing region (10). The supply rotating body (40) is provided with: a main body (41) which has a processing region outer surface (40b) disposed outside the processing region (10) and a processing region inner surface (40a) disposed inside the processing region (10) and which rotates about a rotation axis (C); a supply inlet opening (42) provided to the processing region outer surface (40b); a supply outlet opening (44) provided in the processing region inner surface (40a) in a position further outside in the centrifugal direction from the rotation axis (C) than the supply inlet opening (42); and a supply flow path (46) connecting the supply inlet opening (42) and the supply outlet opening (44). As a result, a processing device that can perform various processes simply and efficiently on various fluids is provided.
(FR)Le dispositif de traitement (1) de l'invention est équipé : d'une région de traitement (10) destinée à l'exécution d'un traitement prédéfini vis-à-vis d'un fluide à traiter (100) ; d'un orifice d'évacuation (20) destiné à évacuer le fluide à traiter (100) après traitement ; et d'un corps rotatif pour alimentation (40) destiné à alimenter l'intérieur de la région de traitement (10) en fluide à traiter (100). Ce corps rotatif pour alimentation (40) est à son tour équipé : d'un corps principal (41) qui possède une face externe de région de traitement (40b) disposée à l'extérieur de la région de traitement (10) et une face interne de région de traitement (40a) disposée à l'intérieur de la région de traitement (10), et qui exerce une rotation avec un axe de rotation (C) pour centre ; d'un orifice d'admission pour alimentation (42) agencé dans la face externe de région de traitement (40b) ; d'un orifice de décharge pour alimentation (44) qui est agencé dans la face interne de région de traitement (40a), en une position côté externe dans une direction centrifuge depuis l'axe de rotation (C) par rapport à l'orifice d'admission pour alimentation (42) ; et d'un trajet d'écoulement pour alimentation (46) qui relie l'orifice de décharge pour alimentation (44) à l'orifice d'admission pour alimentation (42). Par conséquent, l'invention fournit un dispositif de traitement qui permet d'effectuer simplement et efficacement divers traitements sur divers fluides.
(JA) 処理装置1は、被処理流体100に所定の処理を施すための処理領域10と、処理後の被処理流体100を排出するための排出口20と、処理領域10内に被処理流体100を供給するための供給用回転体40と、を備え、供給用回転体40は、処理領域10外に配置される処理領域外面40b、および処理領域10内に配置される処理領域内面40aを有し、回転軸Cを中心に回転する本体41と、処理領域外面40bに設けられる供給用吸入口42と、処理領域内面40aにおいて供給用吸入口42よりも回転軸Cから遠心方向外側の位置に設けられる供給用吐出口44と、供給用吸入口42と供給用吐出口44を繋ぐ供給用流通路46と、を備えている。この結果として、各種流体に対する各種処理を簡便且つ効率的に行うことが可能な処理装置を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)