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1. (WO2015137402) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION D'UN COMPOSÉ ÉPISULFURE POUR MATÉRIAU OPTIQUE, COMPOSITION CONTENANT DE L'ÉPISULFURE ET COMPOSITION POLYMÉRISABLE COMPRENANT LA COMPOSITION CONTENANT DE L'ÉPISULFURE ET À UTILISER DANS UN MATÉRIAU OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/137402    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/057166
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 11.03.2015
CIB :
C07D 331/02 (2006.01), C08G 18/38 (2006.01), G02B 1/04 (2006.01), G02C 7/10 (2006.01)
Déposants : MITSUI CHEMICALS, INC. [JP/JP]; 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1057117 (JP)
Inventeurs : TSUKADA Hidetaka; (JP).
KAWAGUCHI Masaru; (JP)
Mandataire : HAYAMI Shinji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-047890 11.03.2014 JP
2014-185995 12.09.2014 JP
Titre (EN) PRODUCTION METHOD FOR EPISULFIDE COMPOUND FOR OPTICAL MATERIAL, EPISULFIDE-CONTAINING COMPOSITION, AND POLYMERIZABLE COMPOSITION INCLUDING EPISULFIDE-CONTAINING COMPOSITION AND FOR USE IN OPTICAL MATERIAL
(FR) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION D'UN COMPOSÉ ÉPISULFURE POUR MATÉRIAU OPTIQUE, COMPOSITION CONTENANT DE L'ÉPISULFURE ET COMPOSITION POLYMÉRISABLE COMPRENANT LA COMPOSITION CONTENANT DE L'ÉPISULFURE ET À UTILISER DANS UN MATÉRIAU OPTIQUE
(JA) 光学材料用エピスルフィド化合物の製造方法、エピスルフィド含有組成物、および該組成物を含む光学材料用重合性組成物
Abrégé : front page image
(EN)According to the present invention, a production method for an episulfide compound that is for an optical material includes: a step for chlorinating glycerin and obtaining dichloropropanol; a step for epoxidating the dichloropropanol and obtaining epichlorohydrin; a step for reacting the epichlorohydrin with a sulfurizing agent and obtaining, by way of a thiol compound, a bis-chlorohydrin disulfide compound; a step for epoxidating the bis-chlorohydrin disulfide compound under basic conditions and obtaining an epoxy compound; and a step for reacting the epoxy compound with a sulfurizing agent and obtaining an episulfide compound represented by general formula (1). (In the formula, n indicates 0 or 1.)
(FR)La présente invention concerne un procédé de préparation d'un composé épisulfure, destiné à un matériau optique, qui comprend les étapes suivantes : la chloration de glycérine et l'obtention de dichloropropanol; l'époxydation du dichloropropanol et l'obtention d'épichlorhydrine; la réaction de l'épichlorhydrine avec un agent de sulfuration et l'obtention, à l'aide d'un composé thiol, d'un composé disulfure de bis-chlorhydrine; l'époxydation du composé disulfure de bis-chlorhydrine dans des conditions basiques et l'obtention d'un composé époxy; la réaction du composé époxy avec un agent de sulfuration et l'obtention d'un composé épisulfure représenté par la formule générale (1). (Dans la formule, n indique 0 ou 1.)
(JA) 本発明の光学材料用エピスルフィド化合物の製造方法は、グリセリンを塩素化し、ジクロロプロパノールを得る工程と、前記ジクロロプロパノールをエポキシ化し、エピクロルヒドリンを得る工程と、前記エピクロルヒドリンを硫化剤と反応させ、チオール化合物を経てビス(クロロヒドリン)(ジ)スルフィド化合物を得る工程と、前記ビス(クロロヒドリン)(ジ)スルフィド化合物を塩基条件下でエポキシ化し、エポキシ化合物を得る工程と、前記エポキシ化合物を硫化剤と反応させて、下記一般式(1)で表されるエピスルフィド化合物を得る工程と、を含む。 (式中、nは0又は1を示す。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)