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1. (WO2015137125) DISPOSITIF D'EXPOSITION À DES FAISCEAUX
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/137125    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/055524
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 26.02.2015
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), B41J 2/447 (2006.01), G02B 13/00 (2006.01), G03G 15/04 (2006.01)
Déposants : V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP)
Inventeurs : KAJIYAMA Koichi; (JP).
ISHIKAWA Shin; (JP).
SATO Takayuki; (JP).
HASHIMOTO Kazushige; (JP)
Mandataire : EICHI PATENT & TRADEMARK CORP.; 45-13, Sengoku 4-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1120011 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-047904 11.03.2014 JP
Titre (EN) BEAM EXPOSURE DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION À DES FAISCEAUX
(JA) ビーム露光装置
Abrégé : front page image
(EN) A beam exposure device for micro-deflecting a plurality of light beams relative to each other, wherein the plurality of light beams are micro-deflected in a uniform manner. The beam exposure device (1) is provided with a light-emitting unit (2) for emitting light beams (Lb) from a plurality of light-emitting positions (2a), a scanning unit (3), a light-condensing optical system (4) for condensing the spots of the light beams (Lb) on an exposure surface (Ex), and a micro-deflection unit (5) for micro-deflecting the plurality of light beams (Lb) so as to expose the spaces between the plurality of light beams (Lb). The light-condensing optical system (4) is provided with: a first microlens array (41) disposed between the light-emitting unit (2a) and the micro-deflection unit (5), and provided with a plurality of microlenses (41M) that correspond to the light-emitting positions (2a); and a second microlens array (42) disposed between the micro-deflection unit (5) and the exposure surface (Ex), and provided with a plurality of microlenses (42M) that correspond to the light-emitting positions (2a).
(FR) L'invention concerne un dispositif d'exposition à des faisceaux pour micro-dévier une pluralité de faisceaux lumineux les uns par rapport aux autres, la pluralité de faisceaux lumineux étant micro-déviés d'une manière uniforme. Le dispositif d'exposition à des faisceaux (1) est pourvu d'une unité d'émission de lumière (2) pour émettre des faisceaux de lumière (Lb) à partir d'une pluralité de positions d'émission de lumière (2a), d'une unité de balayage (3), d'un système optique de condensation de lumière (4) pour condenser les points des faisceaux de lumière (Lb) sur une surface d'exposition (Ex), et d'une unité de micro-déviation (5) pour micro-dévier la pluralité de faisceaux de lumière (Lb) de manière à exposer les espaces entre la pluralité de faisceaux de lumière (Lb). Le système optique de condensation de lumière (4) est pourvu : d'un premier réseau de microlentilles (41) disposé entre l'unité d'émission de lumière (2a) et l'unité de micro-déviation (5), et pourvu d'une pluralité de microlentilles (41M) qui correspondent aux positions d'émission de lumière (2a) ; et d'un second réseau de microlentilles (42) disposé entre l'unité de micro-déviation (5) et la surface d'exposition (Ex), et pourvu d'une pluralité de microlentilles (42M) qui correspondent aux positions d'émission de lumière (2a).
(JA) 複数の光ビームのビーム間を微小偏向するビーム露光装置において、複数の光ビームの微小偏向を均一に行う。 ビーム露光装置1は、複数の光出射位置2aから光ビームLbを出射する光出射部2と、走査部3と、光ビームLbのスポットを被露光面Exに集光する集光光学系4と、複数の光ビームLbのビーム間を露光するように複数の光ビームLbを微小偏向する微小偏向部5とを備える。集光光学系4は、光出射部2aと微小偏向部5との間に配置され、光出射位置2aに対応するマイクロレンズ41Mを複数備えた第1マイクロレンズアレイ41と、微小偏向部5と被露光面Exとの間に配置され、光出射位置2aに対応するマイクロレンズ42Mを複数備えた第2マイクロレンズアレイ42を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)