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1. (WO2015137063) DISPOSITIF DE MESURE D'INTERFÉRENCES, PROCÉDÉ DE MESURE D'INTERFÉRENCES ET DISPOSITIF D'IMAGERIE À RAYONS X
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/137063    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/054382
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 18.02.2015
CIB :
G01T 7/00 (2006.01), G01N 23/04 (2006.01), G01N 23/20 (2006.01), G02B 5/18 (2006.01)
Déposants : HITACHI, LTD. [JP/JP]; 6-6, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008280 (JP)
Inventeurs : NAGATA,Koji; (JP).
OKABE,Masakazu; (JP)
Mandataire : TAMURA, Naotaka; c/o HITACHI, LTD. HEALTHCARE BUSINESS UNIT, STRATEGY PLANNING & DEVELOPMENT OFFICE, INTELLECTUAL PROPERTY DEPARTMENT, 2-1, Shintoyofuta, Kashiwa-shi, Chiba 2770804 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-051087 14.03.2014 JP
Titre (EN) INTERFERENCE MEASUREMENT DEVICE, INTERFERENCE MEASUREMENT METHOD AND X-RAY IMAGING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE MESURE D'INTERFÉRENCES, PROCÉDÉ DE MESURE D'INTERFÉRENCES ET DISPOSITIF D'IMAGERIE À RAYONS X
(JA) 干渉測定装置、干渉測定方法及びX線撮像装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is an interference measurement device which avoids a high-aspect ratio grating structure in order to eliminate the necessity of thickening the diffractive grating, and which, regardless of light intensity, can stably acquire differential phase-contrast images by utilizing characteristics such as the photoelectric effect and Compton scattering. This interference measurement device is provided with a diffraction grating which includes a grating structure having a photoelectric unit and/or a light generating unit. This interference measurement device acquires multiple images as the diffraction grating moves, detects changes in signal strength of each pixel between multiple images, and acquires a differential phase-contrast image by setting the phase of the change in signal strength to the display intensity of each pixel.
(FR)L'invention concerne un dispositif de mesure d'interférences qui évite une structure de réseau à rapport de forme élevé de sorte à éliminer le besoin d'épaissir le réseau de diffraction, et qui, indépendamment de l'intensité lumineuse, peut acquérir de manière stable des images en contraste de phase différentielle à l'aide de caractéristiques telles que l'effet photoélectrique et la diffusion Compton. Ce dispositif de mesure d'interférences est pourvu d'un réseau de diffraction qui comprend une structure de réseau ayant une unité photoélectrique et/ou une unité de génération de lumière. Ce dispositif de mesure d'interférences acquiert de multiples images à mesure que le réseau de diffraction se déplace, détecte les changements d'intensité du signal de chaque pixel entre de multiples images, et acquiert une image en contraste de phase différentielle en réglant la phase du changement d'intensité du signal sur l'intensité d'affichage de chaque pixel.
(JA) 回折格子を厚くする必要がなくなるため、高アスペクト比のグレーティング構造を回避することができる干渉測定装置を提供し、光電効果やコンプトン散乱などの特性を利用するため、光エネルギーの強弱に依らず、安定的に微分位相コントラスト画像を取得することができる干渉測定装置を提供するために、本発明の干渉測定装置は、光電部又は発光部の少なくとも一方を有するグレーティング構造を含む回折格子を備え、回折格子の移動に伴って複数の画像を取得し、複数の画像間で各画素の信号強度変化を検出し、信号強度変化の位相を各画素の表示強度とすることで微分位相コントラスト画像を取得する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)