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1. (WO2015136904) SYSTÈME DE PRODUCTION D'HYDROGÈNE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'HYDROGÈNE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/136904    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/001241
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 06.03.2015
CIB :
C01B 3/26 (2006.01)
Déposants : CHIYODA CORPORATION [JP/JP]; 4-6-2, Minatomirai, Nishi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2208765 (JP)
Inventeurs : MIKURIYA, Tomoyuki; (JP).
IMAGAWA, Kenichi; (JP).
KAWAI, Hironori; (JP).
NAKAJIMA, Yusuke; (JP).
KANDA, Takenori; (JP)
Mandataire : OSHIMA & PARTNERS; 2-20, Kanda-Jimbocho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010051 (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-046323 10.03.2014 JP
Titre (EN) HYDROGEN PRODUCTION SYSTEM AND HYDROGEN PRODUCTION METHOD
(FR) SYSTÈME DE PRODUCTION D'HYDROGÈNE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'HYDROGÈNE
(JA) 水素製造システムおよび水素製造方法
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide hydrogen by using a simple configuration for a dehydrogenation reaction device that performs a dehydrogenation reaction on organic hydrides, in order to suppress reduction in the activity of a dehydrogenation catalyst in the dehydrogenation reaction device. [Solution] A hydrogen production system (1) comprising: a first dehydrogenation reaction device (3) that generates hydrogen by a dehydrogenation reaction in the presence of an organic hydride catalyst; and a second dehydrogenation reaction device (4) having the generated product from the first dehydrogenation reaction device supplied thereto and generating hydrogen by a dehydrogenation reaction in the presence of the organic hydride catalyst residual in the generated product. The hydrogen production system is configured such that the amount of first catalyst used by the first dehydrogenation reaction device is no more than the amount of second catalyst used by the second dehydrogenation reaction device and the amount of hydrogen generated by the first dehydrogenation reaction device is less than the amount of hydrogen generated by the second dehydrogenation reaction device.
(FR)[Problème] Fournir de l'hydrogène par utilisation d'une configuration simple d'un dispositif de réaction de déshydrogénation qui exécute une réaction de déshydrogénation sur des hydrures organiques, pour supprimer la réduction de l'activité d'un catalyseur de déshydrogénation dans le dispositif de réaction de déshydrogénation. [Solution] Système de production d'hydrogène (1) comprenant : un premier dispositif de réaction de déshydrogénation (3), qui génère de l'hydrogène par une réaction de déshydrogénation en présence d'un catalyseur à base d'un hydrure organique ; et un deuxième dispositif de réaction de déshydrogénation (4) auquel est envoyé le produit généré provenant de la première réaction de déshydrogénation, et générant de l'hydrogène, résiduel dans le produit généré, par une réaction de déshydrogénation en présence du catalyseur à base d'un hydrure organique. Le système de production d'hydrogène est conçu de façon que la quantité du premier catalyseur utilisé dans le premier dispositif de réaction de déshydrogénation ne soit pas supérieure à la quantité du deuxième catalyseur utilisé dans le deuxième dispositif de réaction de déshydrogénation, et que la quantité d'hydrogène générée par le premier dispositif de réaction de déshydrogénation soit inférieure à la quantité d'hydrogène générée par le deuxième dispositif de réaction de déshydrogénation.
(JA)【課題】有機ハイドライドの脱水素反応を行う脱水素反応装置における脱水素触媒の活性の低下を抑制するために、当該脱水素反応装置に対して簡易な構成により水素を供給可能とする。 【解決手段】水素製造システム1が、有機ハイドライドの触媒存在下における脱水素反応によって水素を生成する第1脱水素反応装置3と、第1脱水素反応装置の生成物が供給され、当該生成物に残留する有機ハイドライドの触媒存在下における脱水素反応によって水素を生成する第2脱水素反応装置4とを備え、第1脱水素反応装置で用いられる第1触媒の量は、第2脱水素反応装置で用いられる第2触媒の量以下であり、かつ第1脱水素反応装置における水素の発生量は、第2脱水素反応装置における水素の発生量よりも少ない構成とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)