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1. (WO2015136872) SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE TUYAUTERIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/136872    N° de la demande internationale :    PCT/JP2015/001010
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 26.02.2015
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), B08B 3/04 (2006.01), B08B 9/032 (2006.01)
Déposants : SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP)
Inventeurs : HIGUCHI, Ayumi; (JP).
FUJITA, Eri; (JP).
YOSHIDA, Hiroshi; (JP).
NOMURA, Masashi; (JP)
Mandataire : FUKUSHIMA, Yoshito; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-046373 10.03.2014 JP
2014-065621 27.03.2014 JP
Titre (EN) SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND TUBING CLEANING METHOD
(FR) SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE TUYAUTERIE
(JA) 基板処理システムおよび配管洗浄方法
Abrégé : front page image
(EN)This substrate processing system comprises a cleaning unit, a plurality of processing-liquid supply units, and a substrate processing device. When cleaning tubing, the cleaning unit supplies a first cleaning liquid to processing units in the processing-liquid supply units. The processing-liquid supply units accumulate the first cleaning liquid supplied by the cleaning unit inside processing-liquid tanks and then supply the first cleaning liquid from said processing-liquid tanks to processing units in the substrate processing device via the aforementioned tubing. The cleaning unit prepares a second cleaning liquid in parallel with the cleaning of the tubing via the first cleaning liquid and then supplies the prepared second cleaning liquid to the processing-liquid tanks.
(FR)L'invention porte sur un système de traitement de substrat qui comprend une unité de nettoyage, une pluralité d'unités d'alimentation en liquide de traitement et un dispositif de traitement de substrat. Lors du nettoyage d'une tuyauterie, l'unité de nettoyage fournit un premier liquide de nettoyage à des unités de traitement dans les unités d'alimentation en liquide de traitement. Les unités d'alimentation en liquide de traitement accumulent le premier liquide de nettoyage fourni par l'unité de nettoyage à l'intérieur de cuves de liquide de traitement et fournissent ensuite le premier liquide de nettoyage provenant desdites cuves de liquide de traitement à des unités de traitement dans le dispositif de traitement de substrat par l'intermédiaire de la tuyauterie susmentionnée. L'unité de nettoyage prépare un second liquide de nettoyage en parallèle du nettoyage de la tuyauterie par l'intermédiaire du premier liquide de nettoyage et fournit ensuite le second liquide de nettoyage préparé aux cuves de liquide de traitement.
(JA) 基板処理システムは、洗浄ユニット、複数の処理液供給ユニットおよび基板処理装置により構成される。洗浄ユニットは、配管の洗浄時に、第1洗浄液を処理液供給ユニットの処理ユニットに供給する。処理液供給ユニットは、洗浄ユニットから供給された第1洗浄液を処理液タンク内に貯留した後、処理液タンク内の第1洗浄液を配管を通して基板処理装置の処理ユニットに供給する。洗浄ユニットは、第1洗浄液による配管の洗浄と並行して、第2洗浄液の準備を行い、準備された第2洗浄液を処理液タンクに供給する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)