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1. (WO2015136589) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PANNEAU D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/136589    N° de la demande internationale :    PCT/JP2014/006441
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 24.12.2014
CIB :
G09G 3/30 (2006.01), G01M 11/00 (2006.01), G09G 3/20 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), H05B 33/12 (2006.01)
Déposants : JOLED INC. [JP/JP]; 23, Kandanishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP)
Inventeurs : AMATSUCHI, Mario;
Mandataire : YOSHIKAWA, Shuichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2014-052556 14.03.2014 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY PANEL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PANNEAU D'AFFICHAGE
(JA) 表示パネルの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for manufacturing a display panel (1) having a display region (11) wherein pixels (110) including an organic EL element (101) and a driving transistor (102) are disposed in matrix. The. The method comprises: a step of displaying, in the display panel that has a defective line which is a prescribed pixel array emitting light with luminance showing no display gradation signal, a lighting line which is a pixel array into which a uniform display gradation signal is input in the display region (11), and overlapping the display of the lighting line and the defective line with each other by scanning the lighting line in rows within the display region (11); a step of reducing a bright section or a dark section in the defective line by uniformly modifying a display gradation in the lighting line, the display gradation being input in the pixel array belonging to the lighting line displayed overlapping with the defective line; and a step of identifying a defective pixel from which the defective line starts on the basis of a position of the reduced bright section or dark section in the display region (11).
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un panneau d'affichage (1) ayant une région d'affichage (11) dans laquelle des pixels (110), comprenant un élément électroluminescent organique (101) et un transistor d'attaque (102), sont disposés selon une matrice. Le procédé comprend les étapes suivantes consistant à : afficher, dans le panneau d'affichage qui a une ligne défectueuse qui est une zone de pixels prescrite émettant de la lumière avec une luminance ne montrant aucun signal de gradation d'affichage, une ligne d'éclairage qui est une zone de pixels dans laquelle est entré un signal de gradation d'affichage uniforme dans la région d'affichage (11), et recouvrir partiellement l'affichage de la ligne d'éclairage et l’affichage de la ligne défectueuse l’un avec l’autre par un balayage de la ligne d'éclairage dans des rangées à l'intérieur de la région d'affichage (11) ; réduire une section brillante ou une section sombre dans la ligne défectueuse par une modification uniforme d’une gradation d'affichage dans la ligne d'éclairage, la gradation d'affichage étant entrée dans la zone de pixels appartenant à la ligne d'éclairage affichée se recouvrant partiellement avec la ligne défectueuse ; et identifier un pixel défectueux à partir duquel commence la ligne défectueuse sur la base d'une position de la section à brillance réduite ou de la section sombre dans la région d'affichage (11).
(JA) 有機EL素子(101)と駆動トランジスタ(102)とを有する画素(110)が行列状に配置された表示部(11)を有する表示パネル(1)の製造方法であって、表示階調信号を反映しない輝度で発光する所定の画素列である線欠陥を有する表示パネルにおいて、一様の表示階調信号が入力された画素列である点灯ラインを表示部(11)に表示させ、当該点灯ラインを表示部(11)内で行方向に走査して当該点灯ラインと線欠陥とを重ねて表示させる工程と、線欠陥と重ねて表示された点灯ラインに属する画素列に入力される表示階調を、点灯ラインにおいて一様に変更することにより、線欠陥上の明部範囲または暗部範囲を縮小する工程と、縮小された明部範囲または暗部範囲の表示部(11)における位置から線欠陥の起点となる欠陥画素を特定する工程とを含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)