WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015136533) STRUCTURES DE TEST ET TECHNIQUE DE MÉTROLOGIE UTILISANT LES STRUCTURES DE TEST POUR UNE MESURE DANS DES STRUCTURES MISES EN MOTIFS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/136533    N° de la demande internationale :    PCT/IL2015/050253
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 10.03.2015
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), G01B 21/00 (2006.01), G01D 18/00 (2006.01), H04B 17/00 (2015.01), G03F 1/72 (2012.01)
Déposants : NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD. [IL/IL]; Weizmann Scientific Park P.O.B. 266 7610201 Rehovot (IL)
Inventeurs : TUROVETS, Igor; (IL)
Mandataire : STADLER, Svetlana; Reinhold Cohn and Partners P.O.B. 13239 6113102 Tel-Aviv (IL)
Données relatives à la priorité :
61/950,248 10.03.2014 US
Titre (EN) TEST STRUCTURES AND METROLOGY TECHNIQUE UTILIZING THE TEST STRUCTURES FOR MEASURING IN PATTERNED STRUCTURES
(FR) STRUCTURES DE TEST ET TECHNIQUE DE MÉTROLOGIE UTILISANT LES STRUCTURES DE TEST POUR UNE MESURE DANS DES STRUCTURES MISES EN MOTIFS
Abrégé : front page image
(EN)An article is presented configured for controlling a multiple patterning process, such as a spacer self-aligned multiple patterning, to produce a target pattern. The article comprises a test site carrying a test structure comprising at least one pair of gratings, wherein first and second gratings of the pair are in the form of first and second patterns of alternating features and spaces and differ from the target pattern by respectively different first and second values which are selected to provide together a total difference such that a differential optical response from the test structure is indicative of a pitch walking effect.
(FR)L'invention concerne un article configuré pour commander un procédé de mise en motifs multiple, tel qu'une mise en motifs multiple auto-alignée d'espaceur, pour produire un motif cible. L'article comprend un site de test portant une structure de test comprenant au moins une paire de réseaux, des premier et second réseaux de la paire étant dans la forme de premier et second motifs de fonctionnalités et d'espaces alternés et étant différents du motif cible selon des première et seconde valeurs différentes respectivement qui sont sélectionnées de manière à constituer ensemble une différence totale de telle sorte qu'une réponse optique différentielle provenant de la structure de test est indicative d'un effet de marche de pas.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)