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1. (WO2015135904) DISPOSITIF DE TRAITEMENT ET PROCÉDÉ POUR FAIRE FONCTIONNER UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/135904    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/054901
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 10.03.2015
CIB :
H01J 61/90 (2006.01), H01J 61/54 (2006.01), H01L 21/67 (2006.01)
Déposants : VON ARDENNE GMBH [DE/DE]; Plattleite 19/29 01324 Dresden (DE)
Inventeurs : HAASEMANN, Georg; (DE)
Mandataire : VIERING, JENTSCHURA & PARTNER; Am Brauhaus 8 01099 Dresden (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2014 103 298.5 12.03.2014 DE
10 2014 105 300.1 14.04.2014 DE
Titre (DE) PROZESSIERANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINER PROZESSIERANORDNUNG
(EN) PROCESSING ASSEMBLY AND METHOD FOR OPERATING A PROCESSING ASSEMBLY
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT ET PROCÉDÉ POUR FAIRE FONCTIONNER UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT
Abrégé : front page image
(DE)Eine Prozessieranordnung kann Folgendes aufweisen: eine Prozessierkammer (102) mit einem Belichtungsbereich (111); eine Belichtungsvorrichtung (104) mit mehreren stabförmigen Blitzlampen zum Belichten eines Substrats (108) oder zum Belichten einer Maskenstruktur (108) innerhalb des Belichtungsbereichs (111) in der Prozessierkammer (102) wobei die Belichtungsvorrichtung (104) derart eingerichtet ist, dass diese Licht in einen Lichtausbreitungsbereich (101) emittiert; wobei sich der Lichtausbreitungsbereich (101) zwischen der Belichtungsvorrichtung (104) und dem Belichtungsbereich (111) erstreckt; und eine Lichtreflexionsstruktur (106) mit mindestens einer lichtreflektierenden Oberfläche, welche einen Kanal mit einer Lichteintrittsöffnung und einer Lichtaustrittsöffnung begrenzt, durch welchen sich der Lichtausbreitungsbereich hindurch erstreckt; wobei die Lichtreflexionsstruktur (106) zwischen der Belichtungsvorrichtung und dem Belichtungsbereich angeordnet ist, und wobei die Lichtreflexionsstruktur derart relativ zu der Belichtungsvorrichtung und dem Belichtungsbereich positioniert und/oder ausgerichtet ist, dass innerhalb des Belichtungsbereichs Licht, welches von der Belichtungsvorrichtung direkt in den Belichtungsbereich emittiert wird, mit von der Lichtreflexionsstruktur reflektiertem Licht überlagert wird.
(EN)The invention relates to a processing assembly which can comprise the following: a processing chamber (102) having a light exposure region (111); a light exposure device (104) having a plurality of rod-shaped flash lamps for exposing a substrate (108) to light or for exposing a mask structure (108) to light within the light exposure region (111) in the processing chamber (102), wherein the light exposure device (104) is designed in such a way that the light exposure device emits light into a light propagation region (101); wherein the light propagation region (101) extends between the light exposure device (104) and the light exposure region (111); and a light reflection structure (106) having at least one light-reflecting surface, which light reflection structure bounds a channel having a light inlet opening and a light outlet opening, through which the light propagation region extends; wherein the light reflection structure (106) is arranged between the light exposure device and the light exposure region, and wherein the light reflection structure is positioned and/or oriented in relation to the light exposure device and the light exposure region in such a way that, within the light exposure region, light emitted directly into the light exposure region by the light exposure device is superposed with light reflected by the light reflection structure.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement comprenant : une chambre de traitement (102) pourvue d'une zone d'exposition à la lumière (111); un dispositif d'exposition (104) pourvu d'une pluralité de lampes flash en forme de barres destinées à exposer un substrat (108) à de la lumière, ou à exposer une structure de masque (108) dans la zone d'exposition à la lumière (111) dans la chambre de traitement (102), le dispositif d'exposition (104) étant conçu de façon à émettre de la lumière dans une zone de propagation de lumière (101); la zone de propagation de lumière (101) s'étendant entre le dispositif d'exposition (104) et la zone d'exposition à la lumière (111); et une structure de réflexion de lumière (106) possédant au moins une surface réfléchissant la lumière qui délimite un conduit pourvu d'un orifice d'entrée de lumière et d'un orifice de sortie de lumière, à travers lequel s'étend la zone de propagation de lumière; la structure de réflexion de lumière (106) étant disposée entre le dispositif d'exposition et la zone d'exposition à la lumière, et la structure de réflexion de lumière étant positionnée et/ou orientée par rapport au dispositif d'exposition et à la zone d'exposition à la lumière de telle sorte que, dans la zone d'exposition à la lumière, la lumière réfléchie par la structure de réflexion de lumière se superpose à la lumière émise par le dispositif d'exposition directement dans la zone d'exposition à la lumière.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)