WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2015135782) SYSTÈME DE CAPTEUR, SYSTÈME DE MANIPULATION DE SUBSTRAT ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2015/135782    N° de la demande internationale :    PCT/EP2015/054276
Date de publication : 17.09.2015 Date de dépôt international : 02.03.2015
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : LOF, Joeri; (NL).
KAUFFMAN, Joost; (NL).
PETERS, Martin, Dieter, Nico; (NL).
RUTGERS, Petrus, Theodorus; (NL).
STOPEL, Martijn, Hendrikus, Wilhelmus; (NL).
VAN DEN EIJKEL, Gerard; (NL).
VAN DER SCHOOT, Harmen, Klaas; (NL).
VISSER, Raimond; (NL)
Mandataire : RAS, Michael; (NL)
Données relatives à la priorité :
14159143.8 12.03.2014 EP
Titre (EN) SENSOR SYSTEM, SUBSTRATE HANDLING SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) SYSTÈME DE CAPTEUR, SYSTÈME DE MANIPULATION DE SUBSTRAT ET APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a sensor system (PSS) configured to determine a position of a substrate (W) having an edge (WE). The sensor system comprises a radiation source (LS) arranged to emit a radiation bundle (LB), a reflective element (RE), a detector device (DD) and a substrate table (PWT) having a supporting surface for supporting the substrate. The supporting surface is at least partly along a plane. The radiation source and the detector device are arranged on a first side of the plane. The reflective element is arranged on a second side of the plane other than the first side. The reflective element is arranged to create a reflected bundle by reflecting the radiation bundle. The reflective element is arranged to illuminate the edge with the reflected bundle. The detector device is arranged to receive the reflected bundle.
(FR)L'invention concerne un système de capteur (PSS) conçu pour déterminer la position d'un substrat (W) présentant un bord (WE). Le système de capteur comprend une source de rayonnement (LS) conçue pour émettre un faisceau de rayonnement (LB), un élément réfléchissant (RE), un dispositif de détection (DD) et une table de substrat (PWT) ayant une surface de support permettant de supporter le substrat. La surface de support est disposée au moins partiellement le long d'un plan. La source de rayonnement et le dispositif de détection sont agencés sur un premier côté du plan. L'élément réfléchissant est agencé sur un second côté du plan autre que le premier côté. L'élément réfléchissant est conçu pour créer un faisceau réfléchi par réflexion du faisceau de rayonnement. L'élément réfléchissant est conçu pour éclairer le bord avec le faisceau réfléchi. Le dispositif de détection est conçu pour recevoir le faisceau réfléchi.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)